Вернуться к результатам поиска

Приставка отражения ПО-45 В

Вернуться к результатам поиска
Приставка отражения ПО-45 В
Компания:
СИМЕКС
Производство:
Новосибирск
Применение:
Дополнительно:
Предназначена для экспресс-анализа различных типов твердых непрозрачных образцов, в том числе, полимерных пленок и фрагментов, лакокрасочных покрытий, готовых лекарственных форм в виде таблеток, оптических деталей и полупроводниковых материалов.



• Образец располагается на предметной плоскости исследуемой поверхностью вниз, угол падения центрального луча на образец – 45°
• Диаметр пятна фокусировки – 3 мм
• Позволяет исследовать объекты произвольной формы и размера
• При использовании минипресса позволяет исследовать образцы в виде тонкого слоя, раскатанного по зеркальной пластине из легированной стали (излучение дважды проходит сквозь слой вещества, отражаясь от зеркальной поверхности)
• Не применяется: для исследования сыпучих и жидких веществ