Infraspek

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俄罗斯, Saint Petersburg, Lensoveta, 88, room. 37N
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红外傅里叶光谱仪FSM2211
红外傅里叶光谱仪FSM2211
实验室红外傅里叶光谱仪FSM2211专为近红外范围内的定量和定性研究而设计。 它具有光谱BIC分析方法的所有优点:接收数据的信息含量高,测量的速度和准确性,不需要样品的初步准备和人员的特殊培训。 波段在红外吸收光谱中的位置携带关于样品的定性组成的信息,而波段的强度允许其定量分析,即确定相应组分的浓度(或其它性质)。 这是使用校准模型完成的,该模型是吸收指数(透射)和组分浓度(样品的性质)之间的关系。 根据校准的结果预先计算校准模型,该校准模型包括用已知的(通过标准化学方法建立的)组分浓度或其他已知性质配准一批样品的光谱。 FSM2211光谱仪基于具有自补偿功能的迈克尔逊型干涉仪,不需要动态调整。
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生产于: 圣彼得堡
石英比色皿型SF
石英比色皿型SF
石英比色皿专为研究液体样品而设计,具有固定的光程长度。 它们特别用于通过IR吸收光谱(控制区域-2925cm-1)确定水中石油产品和液氨中石油的质量浓度。 SF型比色皿由KV品牌的光学石英玻璃制成。 它们配有由氟塑料制成的盖子。 光程长度1, 5, 10, 20, 30, 40 嗯
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生产于: 圣彼得堡
漫反射PDO的前缀
漫反射PDO的前缀
Prefix旨在与IR傅里叶光谱仪FSM一起测量光谱中近红外区域的散射表面和分散样品的漫反射光谱。
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生产于: 圣彼得堡
硅片前缀
硅片前缀
控制台设计用于在透射或反射模式下控制直径达200mm的半导体晶片的参数。 板材的参数通过高度敏感的非接触式方法在操作员指定的点进行控制。
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半导体晶圆测试仪FSM1201P
半导体晶圆测试仪FSM1201P
用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序,自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量%以内。
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生产于: 圣彼得堡
Specord型比色皿
Specord型比色皿
带有密封连接窗口的比色皿具有恒定的光程长度和可折叠的外壳。 比色皿专为定性和定量分析挥发性液体和低粘度液体而设计。
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多通气体比色皿KG40
多通气体比色皿KG40
多通道气体比色皿KG40专为测定阈值<0.1ppm的气体中的杂质而设计。 光路长度为3.12-40.56m,变化步长为3.12m。 窗口材料:kbr与防潮涂层或CaF2。 比色皿的体积为19升。
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DT13片剂支架
DT13片剂支架
DT13支架设计为通过直径为13mm的片剂的机械夹具固定,从粉末状固体样品和KBr晶体的混合物中压缩。
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水平类型的MNPVO36前缀
水平类型的MNPVO36前缀
设计用于研究液体介质、精细非研磨性粉末和聚合物薄膜的化学成分。 多次扰动全内反射的方法使得可以显着简化样品的制备,并可用于实施产品质量控制的快速方法。
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代表cuvette PC50-75
代表cuvette PC50-75
Cuvette PC50-75的支架专为安装而设计: 石英比色皿SF型支架DC10-10; 石英比色皿型KFK在支架DC KFK; 可折叠比色皿KR1, 可折叠比色皿KR20, 电影 支架,平板电脑 夹持器、固体样品夹持器。
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Bic分析的前缀
Bic分析的前缀
前缀被设计用于测量样品在光谱的近红外区域的吸收光谱在范围内4 000 — 12 500 sm-1连同IR傅里叶光谱仪FSM1211。 利用近红外区域,能够对医药、化工、高分子、纺织、食品、农业等行业进行鉴定和定量分析。 BIC分析法允许您研究粉末,粉碎和纤维材料等。
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