Поиск

«СОРТ-М» — это прецизионный стационарный рентгеновский компьютерный томограф, предназначенный для получения трёхмерных изображений внутренней структуры объектов. Система спроектирована для использования в условиях производственных помещений без необходимости сооружения дополнительной радиационной защиты (кабинетного типа). Основные области применения: Неразрушающий контроль качества: выявление внутренних дефектов (поры, трещины, включения), контроль сварных швов, целостности сборки, параметров отливок (толщина стенок, геометрия каналов). Обратный инжиниринг: восстановление полной CAD-модели изделия, включая внутреннюю геометрию и скрытые полости, с учётом реального износа и дефектов. Верификация и валидация: сравнение изготовленного изделия с исходной CAD-моделью, построение карт отклонений. Подготовка данных для CAE-анализа: создание точных расчётных сеток на основе реальной геометрии объекта, включая внутренние неоднородности, для проведения прочностных, гидродинамических и иных расчётов. Контроль аддитивного производства (3D-печати): выявление внутренних дефектов (несплавления, поры), контроль точности изготовления и усадки. Научные исследования: изучение микроструктуры материалов (металлы, композиты, полимеры), анализ плотности, динамики изменений в биологических и небиологических объектах. Ключевые особенности и преимущества Полный цифровой цикл: «СОРТ-М» служит «мостом» между физическим объектом и цифровой средой, обеспечивая получение объективных данных для всего цикла разработки — от реверс-инжиниринга и проектирования до опытного производства и контроля серийных изделий. Отечественная разработка: аппаратная часть и, что критически важно, полностью отечественное программное обеспечение для управления, реконструкции и анализа данных. Это обеспечивает информационную безопасность, независимость от зарубежных поставщиков, гибкость в адаптации под специфические задачи Заказчика и долгосрочную техническую поддержку. Автоматизация и интеграция: система поддерживает возможность интеграции шестикоординатного роботизированного манипулятора для автоматической загрузки/выгрузки образцов. Это позволяет встраивать томограф в автоматизированные производственные или исследовательские линии.

Изготавливаются из тонких листов тугоплавких металлов (тантал, молибден, вольфрам и др.) и имеют специальные углубления, в которых размещается испаряемый материал. Нагрев осуществляется прямым протеканием тока. Применяются для испарения в вакууме материалов, плохо удерживающихся на проволочных испарителях. Особенности Испаритель крепится на электрических вводах специально-разработанными кронштейнами, позволяющими менять расположение и угол лодочки для получения необходимого распределения. Крепление испарителя позволяет быстро без специальных приспособлений заменить лодочку. Преимущество техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы испарителя и возможность получения покрытий различного химического состава. Комплектация • испаритель– лодочка; • пневматическая заслонка (опция); • регулируемые держатели для лодочки(опция); • изолированные токовводы; • система питания. Лодочки-испарители и компоненты: токовводы, система питания, пневматическая заслонка в различной конфигурации можно заказать отдельно!

Печь EPOS-VACFURN-DESK-1300 c вертикально расположенной вакуумной камерой, с поднимающимся с помощью ручного привода колпаком камеры. Источник питания и управления расположен в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение вакуума лучше 1,3·10-2 Па (в холодном состоянии). Печь оснащена рубашкой охлаждения, высокотемпературным нагревателем и предельно проста в эксплуатации. Опционально возможна установка регулятора расхода газов для проведения нагрева в атмосфере высокой чистоты различных инертных, восстановительных газов и их смесей. ОСОБЕННОСТИ • Конструкция и материалы нагревательных элементов и зоны нагрева позволяет нагревать изделия до 1250 °C кратковременно и 1200 °C длительно с термопарой типа К, и 1300 °C с термопарой типа N; • Прозрачное окно на колпаке камеры позволяет визуально контролировать процессы в рабочей зоне; • Полностью безмасляная откачка; • Конструкция кронштейна обеспечивает удобный подъем колпака и отвод его в сторону для удобства смены образцов, а также препятствует опрокидыванию камеры. • Предельные габаритные размеры обрабатываемых образцов 60х60х60; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме с помощью ПИД-регулятора; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Пошаговое ПИД-регулирование – 3 программы технолога по 5 шагов; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева, обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию. ПРЕИМУЩЕСТВА Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 1300°C. Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов при проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами, чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора. Возможность заказа печи с различной системой высоковакуумной откачки и без нее, а также дополнительная опция с установкой регулятора расхода газов, позволяют расширить возможности и сконфигурировать печь непосредственно для Ваших задач.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Производитель: НДТРЕЙД, Россия Активная размагничивающая поверхность: 150x95 мм Размагничивающее поле: до 50000 A/м Глубина размагничивания: до 60 мм Рабочий цикл: 10 мин. вкл. / 10 мин. выкл. Мощность: 180 Вт Напряжение: 220 — 240 В/50 Гц Вес: 2,2 кг Габаритные размеры: 165х86х220 мм Длина кабеля: 3,0 м Защита от перегрева: есть Гарантия: 2 года ПОРЯДОК РАБОТЫ: Для защиты поверхности детали от царапин и для более легкого перемещения устройства по поверхности, положите тонкий картон или пластик (0,5-1 мм) на верхнюю часть заготовки. 1. Подведите устройство к поверхности детали и нажмите кнопку включения (черная кнопка на ручке). 2. Сделайте медленные круговые движения над намагниченной областью в течении 2-3 секунд, убедившись, что покрыли намагниченную область полностью, а затем отведите устройство на расстояние не менее 0,5 м от детали. Отпустите кнопку. Повторяйте операцию в каждой зоне намагничивания. 3. Максимальная глубина поля 60 мм. Если деталь толще, переверните ее и повторите операции, описанные в пункте 2. 4. Для проверки снятия остаточной намагниченности используйте гауссметры. 5. Если деталь недостаточно размагнитилась, повторите операцию с шага 2. 6. Не превышайте максимального времени включения — 10 минут!

Размагничивающее устройство FF-200×150 - универсальный демагнитизатор с мощным размагничивающим полем, который используется для размагничивания практически любых деталей и заготовок: металлические листы и плиты; части станков и оборудования; подшипники; кольца и валы; матрицы и штампы; инструмент, метизы, лезвия, пружины и т.д. Удобная конструкция с ручками позволяет использовать демагнитизатор как размагничивающий стол, так и ручной размагничиватель. Производитель: НДТРЕЙД (Россия) Активная размагничивающая поверхность: 200x150 мм Размагничивающее поле: не более 100000 A/м Глубина размагничивания: до 60 мм Рабочий цикл: 50% Напряжение: 220 — 240 В/50 Гц Габаритные размеры: 200х150х100 мм Вес: 8,0 кг Защита от перегрева: есть Гарантия: 2 года Порядок работы: Для защиты поверхности стола и детали от царапин, а также для более легкого перемещения детали по поверхности устройства, положите тонкий картон или пластик (0,5-1 мм) на верхнюю рабочую поверхность размагничивающего стола. Держите детали отдельно от размагничивающего стола до его включения. Подключите сетевой кабель к размагничивающему устройству. Вставьте вилку сетевого кабеля в розетку с соответствующим напряжением (220 В). Включите размагничивающее устройство — переведите выключатель в положение “I”, загорится сигнальная лампа. Медленно перемещайте деталь над поверхностью стола прямыми и круговыми движениями в течении 5-10 секунд, затем отведите деталь на расстояние 50 см от размагничивающего устройства. Для лучшего размагничивания рекомендуется менять положение детали относительно поверхности размагничивающего устройства, так как магнитные поля в детали могут иметь разное направление. Если деталь или заготовка имеет толщину 60-120 мм, то ее нужно перевернуть и повторить шаг 5, чтобы размагнитить другую сторону. Используйте гауссметр для измерения остаточной намагниченности, чтобы проверить размагничивание. Если деталь или заготовка все еще недостаточно размагничены, повторите шаги 5, 6. Если заготовка имеет габаритные размеры больше, чем поверхность размагничивающего стола, то передвигайте ее над поверхностью демагнитизатора несколько раз, перемещая при этом каждый раз на 1/3 ширины стола и отведите от него на расстояние 50 см. Убедитесь, что размагничиваемая заготовка находится на расстоянии не менее 50 см от демагнитизатора перед его выключением. Для выключения размагничивающего стола переведите выключатель в положение “О”. Выключите размагничивающее устройство FF-200×150 из сети после использования.