Поиск

Установка комплектуется одним испарителем для нанесения резистивных сплавов, двумя испарителями для нанесения металлических слоев и источником ионной очистки.

Установка предназначена для нанесения сверхтвердых покрытий различных металлов и их соединений, а также алмазоподобных пленок на основе аморфного углерода и может быть использована для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов, применяемых для металлообработки, деталей узлов трения, изделий микромеханики, а также для формирования биофункционального покрытия на изделия медицины.

Высокая производительность установки обеспечивает возможность ее использования для серийного производства изделий микроэлектроники. Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки.

Установка комплектуется одним резистивным и двумя электронными испарителями с кольцевым катодом, источником ионной очистки.

Установка оснащена автономной системой оборотного водоснабжения, а также модемом, позволяющим осуществлять дистанционное управление технологическим процессом, осуществлять настройку онлайн и передавать данные о неисправности в службу поддержки.

Установка Оратория 5М обеспечивает: • безмасляную (сухую) откачку на базе форвакуумного и криогенного, или турбомолекулярного насосов; • ручное управление скоростью конвейера, током нагревателя пластин; • работу двух магнетронов в диапазоне мощности от 2 до 6 кВт.; • работу радиочастотного плазменного генератора РПГ-250; • исключение «человеческого фактора» при проведении техпроцесса нанесения покрытий и минимизация возможности получения брака; • повторяемость характеристик покрытий из загрузки в загрузку; • корректировку, при необходимости, параметров режима во время процесса без его останова («ручной режим»); • возможность создавать любые новые техпроцессы самостоятельно; • протоколирование техпроцессов, позволяющее технологу проводить контроль и оперативное выявление причин возникновения брака в производстве покрытий; • непрерывный мониторинг оборудования и управление его работой при возникновении аварийных ситуаций; • диагностику и регистрацию параметров функционирования основных систем оборудования, что позволяет оперативно находить возникающие неполадки и неисправности.

Комплекс имеет четыре рабочих камеры, объединенных шлюзовой системой и транспортными связями в линию вакуумного напыления.

Предназначена для нанесения сверхтвердых покрытий различных металлов и их соединений, а также алмазоподобных пленок на основе аморфного углерода и может быть использована для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов, применяемых для металлообработки, деталей узлов трения, изделий микромеханики, а также для формирования биофункционального покрытия на изделия медицины.

Реализуют термогравиметрический (воздушно-тепловой) метод определения массовой доли влаги, основанный на измерении массы образца анализируемого вещества до и после его высушивания с последующим расчётом значений массовой доли влаги. Установки измерительные воздушно-тепловые АСЭШ-8 зарегистрированы в Государственном реестре средств измерений под №58526-14, имеют свидетельство об утверждении типа средств измерений RU.C.31.005А № 56847 . Установки проходят первичную поверку и имеют соответствующее свидетельство. ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА 1. Удобный доступ к ячейкам сушильной камеры На лицевой стороне шкафа расположены четыре дверцы для доступа к ячейкам. 2. Возможность одновременного проведения определения влажности 8 проб Сушильная камера воздушно-тепловой установки состоит из 8 независимых ячеек общей вместимостью 16 бюкс . 3. Встроенный таймер Установка АСЭШ-8-1 имеет 4 таймера, посредством которых осуществляется контроль окончания процесса сушки в каждой секции с выдачей звукового сигнала и световой индикации. 4. Естественная вентиляция Отсутствие вращающихся элементов обеспечивает абсолютную бесшумность работы и длительный срок эксплуатации. ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ: 1. Продукция растениеводства, сельского и лесного хозяйства. 2.Продукция мясной, молочной, рыбной, мукомольно-крупяной, комбикормовой и микробиологической промышленности. 3.Продукция пищевой промышленности. 4. Целлюлоза, бумага, картон и изделия из них. 5. Медикаменты, химико-фармацевтическая продукция и продукция медицинского назначения. 6. Материалы строительные. 7. Продукция лесозаготовительной и лесопильно-деревообрабатывающей промышленности. 8. Грунты, почвы, удобрения минеральные.

Установка предназначена для нанесения износостойких упрочняющих и коррозийностойких покрытий на металлические детали ионно-плазменным методом. Установка используется для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов применяемых для металлообработки.

Установка предназначена для осаждения многослойных тонких пленок из металлов, сплавов и диэлектриков, методом термического испарения материала электроннолучевыми испарителями на кремниевые подложки диаметром до 100мм.

Установки радиационные поверочные нейтронного излучения серии УРПН-РМ9200 предназначены для автоматизированной поверки, калибровки, градуировки и испытаний средств измерений нейтронного излучения с помощью воспроизведения и передачи единиц плотности потока нейтронного излучения, мощности амбиентного эквивалента дозы и мощности индивидуального эквивалента дозы нейтронного излучения. Установки с комплектом источников нейтронного излучения обеспечивают создание поля нейтронного излучения быстрых и тепловых нейтронов в коллимированном пучке, а также формирование поля нейтронов в открытой геометрии. В установках применяются закрытые радионуклидные источники нейтронного излучения из 238Pu-Be, 239Pu-BE, 241Am-Be и 252Cf. Установка выпускается в трех модификациях, которые отличаются облучателями. Технические характеристики Мощность амбиентного эквивалента дозы нейтронного излучения (МАЭД), мкЗв/ч 3,5 – 3,4·104 Доверительные границы относительных погрешностей установок при доверительной вероятности 0.95 должны быть не более при воспроизведении единиц плотности потока нейтронов 5% при воспроизведении единиц МАЭД и МИЭД 7% Плотность потока быстрых нейтронов, с-1∙см-2 2,5 – 24,0·103 Плотность потока тепловых нейтронов, с-1∙см-2 1,0 – 5,6·103 Габариты и масса облучателя 2550x730x700 мм, 190 кг Максимальная активность применяемых источников, поток быстрых нейтронов в телесный угол 4 π ср, c^{-1} 252Cf 5x108 238Pu-Be 5x107 239Pu-Be 1x107 241Am-Be 5x107 Максимальная активность применяемых источников, при создании широкого пучка нейтронов в «открытой» геометрии 1x109 Максимальные геометрические размеры применяемых источников, Øхh, мм 35х45 Мощность индивидуального эквивалента дозы (МИЭД), мкЗв/ч 3,5 – 3,4·104 Количество источников до 4 шт. Уровень собственного радиационного фона установки при использовании источника с максимальной активностью находящимися, в положении “хранение” на расстоянии 1 м от поверхности облучателя, мкЗв/ч, не более по суммарному излучению (гамма и нейтронному) 1,0 Время перевода источника из положения хранения/рабочего в положение рабочее/хранения не более, сек 15 Суммарный поток быстрых нейтронов от источников, размещенных в облучателе установки не должен превышать, с-1 1x109 Масса приборов, устанавливаемых на рабочем столе, не более, кг 70.