Поиск

Технические характеристики: Объем рабочей камеры, литров 100 Максимальная температура, °C 1100 Размеры рабочей камеры (глубина х ширина × высота), мм 640х390х390 Установленная мощность, кВт 18,0 Параметры питающей сети 380 В / 50 Гц / 3 фазы Загрузка-Горизонтальная Внешние габариты (длина х ширина × высота), мм1200х1150х1050 Вес, кг 390

Модификация И1158М (Свидетельство об утверждении типа СИ RU.C.28.072.A № 62347, регистрационный номер 63992-16) – настольная, одновинтовая, двузонная, с компьютерной системой управления и измерения машина с максимальной нагрузкой каждой рабочей зоны до 5 кН. Высота рабочего пространства 700 мм и более. Машина предназначена для испытания материалов в верхней рабочей зоне на растяжение (в нижней рабочей зоне на сжатие и изгиб)[3] с целью определения прочностных и деформационных характеристик испытуемых образцов по ГОСТ 1497-84, ГОСТ 270-75, ГОСТ 11262-80. Рабочие зоны машины рассчитаны на проведение испытаний с номинальной нагрузкой до 5 кН. Класс точности машин 0,5 и 1. Машина может быть укомплектована быстросъёмными электронными силоизмерительными датчиками с номинальными значениями: 5 кН; 2,5 кН; 1 кН; 0,5 кН; 0,25 кН; 0,1 кН; 0,05 кН; 0,01 кН. Общий диапазон измерения нагрузки машины 0,0002 – 5000 Н при относительной погрешности измерения нагрузки 0,5% или 1%.

Отсадочная лабораторная машина предназначена для работы с неагрессив¬ными средами при отсадке полезных ископаемых руд и других горных по¬род крупностью до 5 мм в лабораторных условиях.

Может быть использован для определения качества сварки конструкций из нержавеющих сталей. Тип преобразователя – магнитоиндукционный. Снабжен энергонезависимой памятью, а также функциями статистической обработки результатов измерения и документирования путем передачи данных по USB-кабелю на внешний компьютер. Обеспечивает индикацию минимума и максимума в серии измерений. Комплектуется преобразователем с износостойким наконечником (индекс Т).

Маятниковый копер с ручным подъемом молота серии МК-50 предназначен для определения ударной вязкости материалов: при двухопорном изгибе по методу Шарпи в соответствии с ГОСТ 4647-80; при консольном ударном изгибе по методу Изода в соответствии с ГОСТ 19109-84*; при испытаниях пленок на ударное растяжение*. Подъем и возврат маятника в крайнее верхнее положение для фиксации заданного угла зарядки маятника осуществляется вручную, а результаты испытаний фиксируются на аналоговой шкале и пульте оператора. Маятниковый копер МК-50 предназначен для работы в помещениях лабораторного типа, изолированных от проникновения агрессивных веществ и вибрации, при температуре окружающего воздуха от +10 до +35°С.

Томно-эмиссионный комплекс «Гранд-Глобула» включает в себя спектрометр "Гранд", спектроаналитический генератор "Шаровая Молния" и штатив "Глобула". Позволяет проводить анализ различных веществ и материалов в дуговом и искровом разрядах на воздухе, например по ГОСТ 17818.15-90 "Графит. Метод спектрального анализа", ГОСТ 9717.1-82 "Медь. Метод спектрального анализа по металлическим стандартным образцам с фотоэлектрической регистрацией спектра" и другим МВИ.

Испытательная машина предназначена для испытаний образцов материалов (изделий) твердостью до 42 HRC на растяжение при статических режимах одноосного нагружения и нормальной температуре согласно стандартизованным методам испытаний материалов (изделий) по российским и зарубежным стандартам.

Изготовлены из металлического профиля, покрытого химически стойкой краской, оснащены колесными опорами, две из которых со стопорным механизмом. Материал столешниц можно подобрать исходя из поставленных задач. Полки у подкатных стоек могут регулироваться по высоте. Имеется возможность оснащения дополнительным блоком розеток для подключения оборудования. Материал столешниц - ЛДСП. Габаритные размеры ШхГхВ ММ.: • СТ-05 LAB RAL 9010 - 600×510×1640; • СТ-05 Комфорт LAB RAL 9010 - 700×470×1635; • СТ-06 LAB RAL 9010 - 600×500×1605.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.