Поиск

Напольные установки имеют следующие параметры: тип плазмы - низкочастотную или высокочастотную; частота генератора - 40 кГц / 13,56 МГц; мощность генератора - 50 - 1000 кВт; материал камеры - кварцевое стекло, нержавеющая сталь, алюминий; объем камеры - 5 - 100 л; форму камеры - цилиндрическая/ прямоугольная; количество газов - от 1 до 3 шт; подача газов - цифровой регулятор газов; масса - 200-250 кг; питание - 380 В, 3 фаза.

Высокая производительность установки обеспечивает возможность ее использования для серийного производства изделий микроэлектроники. Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки. Установка обеспечивает: безмасляную откачку на базе криогенного или турбомолекулярного насосов. очистку поверхности изделий перед напылением с помощью ионного источника постоянного тока; нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев; автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки» контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению «свидетеля»; Основные технические характеристики: Количество подложек размером 60×48 мм, обрабатываемых за один цикл, шт. — 40. Диапазон температуры нагрева подложек, °С — 100-350. Скорость вращения карусели, об/мин — 10-60. Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. — 80

Настольные установки имеют следующие параметры: тип плазмы - низкочастотную или высокочастотную; частота генератора - 40 кГц / 13,56 МГц; мощность генератора - 50 - 100 кВт; материал камеры - кварцевое стекло, нержавеющая сталь, алюминий; объем камеры - 2 - 24 л; форму камеры - цилиндрическая/ прямоугольная; количество газов - от 1 до 3 шт; подача газов - цифровой регулятор газов; масса - 40-50 кг; питание - 220 В, 1 фаза.