Поиск

Измеряемые параметры активность ионов водорода (pH) ЭДС электродных систем (мВ) окислительно-восстановительный потенциал Eh (мВ) температуры водных сред (°C) Канал температуры T, диапазон 0...100°C. Потенциометрический канал pH, диапазон -2…-14.

Предназначены для определения водородного показателя (pH) и измерения ЭДС (ОВП, Eh). Используются совместно с pH и Eh электродами в комбинированном исполнении или дополнительного электрода сравнения. Модели pH-метров отличаются метрологическими характеристиками, ИПЛ-301 имеет обычную, а ИПЛ-311 - повышенную точность измерений.

Измеряемые параметры активность ионов водорода (pH) ЭДС электродных систем (мВ) окислительно-восстановительный потенциал Eh (мВ) температуры водных сред (°C) Канал температуры T, диапазон 0...100°C. Потенциометрический канал pH, Диапазон -2...14

Предназначены для определения водородного показателя (pH) и измерения ЭДС (ОВП, Eh). Используются совместно с pH и Eh электродами в комбинированном исполнении или дополнительного электрода сравнения.

Настенный ультрафиолетовый облучатель открытого типа TAGLER ОБН-150С TAGLER ОБН-150С — это большой настенный бактерицидный облучатель с двумя открытыми лампами мощностью 30 Вт каждая, который предназначен для обеззараживания больших по объёму помещений. Он снабжён счётчиком наработки часов, который позволит вовремя менять лампы. Сзади облучателя установлена клеммная колодка для подключения кабеля питания (не входит в комплектацию). Как разместить и подключить к сети TAGLER ОБН-150С TAGLER ОБН-150С можно повесить на стену на высоте не менее двух метров от уровня пола. В комплект входят саморезы с дюбелями. Подключение к стационарной сети напряжением 220 В осуществляется трёхжильным кабелем питания стационарной проводки через трехклеммную винтовую колодку (фаза/земля/нейтраль), расположенную на задней стенке нижнего блока. Сечение жил кабеля не более 6 мм2. У TAGLER ОБН-150С нет отсрочки включения ламп после подачи питания, поэтому мы настоятельно рекомендуем располагать выключатель вне обрабатываемого помещения возле входной двери. Счётчик наработки позволяет оценивать выработанный ресурс ламп и вовремя их менять. После замены ламп счётчик можно обнулить. Как работают открытые ультрафиолетовые облучатели Работа облучателей основана на обеззараживающем действии ультрафиолетового света (то есть излучения с длиной волны меньше 400 нанометров). Бактерицидным действием обладает ультрафиолетовое излучение с диапазоном длин волн 205-315 нм. Оно повреждает ДНК клеточного ядра микроорганизмов, что приводит к гибели микробных клеток в первом или последующем поколении. Ультрафиолетовые лампы подходят для уничтожения вирусов, передаваемых воздушно-капельным путём, например вирусов гриппа или коронавирусов, а также различных микроорганизмов, спор или бактерий. Реакция живой микробной клетки на ультрафиолетовое излучение не одинакова для различных длин волн. В TAGLER ОБН-150С используются две ртутных разрядных лампы низкого давления мощностью 30 Вт каждая. Они дают коротковолновое излучение с максимумом при длине волны 253,7 нм, излучение с такой длиной волны наиболее эффективно разрушает микроорганизмы. Чтобы предотвратить синтез озона, колба лампы сделана из специального стекла, которое непроницаемо для излучения с длиной волн около 200 нм (озон образуется из молекул кислорода в воздухе при излучении с длиной волны 185 нм и опасен для людей). Для ОБН-150 С используются только лампы европейского производства. Срок их службы не менее 8000 часов. Облучатель можно использовать для обеззараживания разных категорий помещений. Время обработки будет зависеть от объёма помещения. Объём помещений, м3 Время работы TAGLER ОБН-150С, мин, для достижения бактерицидной эффективности 99,9 % по S. aureus 20 10 30 15 40 20 60 30 120 60 Как безопасно использовать открытый бактерицидный облучатель Открытое ультрафиолетовое излучение опасно для людей и домашних животных. Облучатель нельзя использовать в помещении, где кто-то находится. Мы рекомендуем располагать выключатель за пределами помещения, в котором находится лампа или, если это невозможно, при включении использовать специальные защитные очки и как можно быстрее покинуть помещение после начала работы ламп. Преимущества TAGLER ОБН-150С Мощная модель с открытыми бактерицидными лампами. Используются безозоновые лампы европейских производителей. Время наработки — не менее 8000 часов. Есть встроенный счётчик наработки ламп. Эффективное обеззараживание помещений и поверхностей. Можно применять в помещениях I-V категории. Применение TAGLER ОБН-150С Ультрафиолетовый бактерицидный облучатель TAGLER ОБН-150 используется в помещениях с повышенным риском распространения возбудителей инфекций: в лечебно-профилактических, дошкольных, школьных, производственных и общественных организациях и других местах с большим скоплением людей. Её использование необходимо для соблюдения санитарных норм в различных типах помещений, она снижает количество микроорганизмов и позволяет проводить профилактику инфекционных заболеваний.

МЦ-2800 — это небольшая центрифуга-вортекс с постоянной скоростью вращения 2800 об/мин. В центре ротора расположена головка вортекса, которая позволяет встряхивать содержимое больших пробирок. В комплект МС-2800 входят два сменных ротора: 1,5М и 0,2/0,5М. Первый позволяет работать с пробирками Эппендорфа объёмом 1,5 или 2 мл. Максимальное количество пробирок: 12 шт. Второй ротор позволяет центрифугировать пробирки Эппендорфа объёмом 0,2 мл (максимальное количество пробирок: 6 шт) и 0,5 мл (максимальное количество пробирок: 12 шт). Роторы легко менять без инструментов, нужно открутить головку вортекса, поставить нужный ротор и закрепить головку вортекса обратно. Для встряхивания пробирки аккуратно прижмите её к дну конического углубления головки вортекса и нажмите кнопку кратковременной работы.

Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники; Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности. Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации. Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей. Особенности • Полная автоматизация установки: управление вакуумными агрегатами, мощностью нагревателей, подачей газов, а также электромеханическими элементами. • Нагревательные элементы и зона нагрева выполнены из вольфрама, что позволяет нагревать изделия до 2000 °C.; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме; • Материалы, использованные для изготовления тепловых экранов - молибден, вольфрам и жаростойкая нержавеющая сталь; • Экраны крышек выполнены таким образом, что образуют тепловой замок; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию; • В установке реализована возможность работы в среде инертных газов, формир-газа и их смеси; • Типичная загрузка обрабатываемого материала до 5 кг; Преимущества Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 2000°C. При этом реализованы 2 варианта настройки программы работы печи: • по температуре нагревателя (OTC), температурный сенсор в области нагревателя; • по температуре загрузки (STC), температурный сенсор в зоне нагрева над загрузкой. Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1); Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С; Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора; При проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов;

Измеряется величина тока на электрод, помещенный в плазму, в зависимости от величины приложенного пилообразного напряжения, то есть определяется зондовая вольтамперная характеристика (ВАХ). ВАХ позволяет определить локальные, в области нахождения электрода, параметры невозмущенной плазмы. При помощи встроенного математического аппарата вычисляется плотность плазмы и оценивается ее температура на основе измеренной ВАХ. Особенности Если в плазму вводятся два малых одинаковых электрода на близком расстоянии, и напряжение подается между ними, зонд Ленгмюра работает в режиме двойного зонда. Такой режим установлен по умолчанию, он позволяет диагностировать параметры высокочастотной или нестационарной плазмы, практически не возмущая её, т.к. электроды полностью гальванически изолированы от разрядной камеры. В режиме одиночного зонда пилообразное напряжение подается на электрод, который введен в плазму, относительно опорного электрода, которым может быть металлическая стенка разрядной камеры. Преимущество Манипулятор позволяет осуществлять аксиальное и радиальное позиционирование датчика в пространстве рабочей камеры и определять распределение концентрации плазмы или оценивать ее однородность. Надежность, техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.