Поиск

Изготавливаются из тонких листов тугоплавких металлов (тантал, молибден, вольфрам и др.) и имеют специальные углубления, в которых размещается испаряемый материал. Нагрев осуществляется прямым протеканием тока. Применяются для испарения в вакууме материалов, плохо удерживающихся на проволочных испарителях. Особенности Испаритель крепится на электрических вводах специально-разработанными кронштейнами, позволяющими менять расположение и угол лодочки для получения необходимого распределения. Крепление испарителя позволяет быстро без специальных приспособлений заменить лодочку. Преимущество техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы испарителя и возможность получения покрытий различного химического состава. Комплектация • испаритель– лодочка; • пневматическая заслонка (опция); • регулируемые держатели для лодочки(опция); • изолированные токовводы; • система питания. Лодочки-испарители и компоненты: токовводы, система питания, пневматическая заслонка в различной конфигурации можно заказать отдельно!

Диаметр главного зеркала 360 мм Относительное отверстие главного зеркала F/3 Диаметр вторичного зеркала 140 мм Эквивалентное относительное отверстие F/8 Эквивалентное фокусное расстояние 2880 мм Вынос фокальной плоскости за вершину главного зеркала 307 мм Расстояние между зеркалами 702 мм Толщина главного зеркала 45 мм Толщина вторичного зеркала 20 мм Диаметр центрального отверстия в главном зеркале 120 мм Материал зеркал ЛK-7 (Оптическое стекло с низким температурным коэффициентом линейного расширения) По договоренности может быть изготовлена оптика из Ситалла Точность оптики искажения волнового фронта всей системы 1/4λ или меньше, среднеквадратичное отклонение (RMS) 1/25λ или меньше, критерий Штреля 0.95, или больше Покрытия зеркал Al + SiO2 (кварц)

Отсадочная лабораторная машина предназначена для работы с неагрессив¬ными средами при отсадке полезных ископаемых руд и других горных по¬род крупностью до 5 мм в лабораторных условиях.

Томно-эмиссионный комплекс «Гранд-Глобула» включает в себя спектрометр "Гранд", спектроаналитический генератор "Шаровая Молния" и штатив "Глобула". Позволяет проводить анализ различных веществ и материалов в дуговом и искровом разрядах на воздухе, например по ГОСТ 17818.15-90 "Графит. Метод спектрального анализа", ГОСТ 9717.1-82 "Медь. Метод спектрального анализа по металлическим стандартным образцам с фотоэлектрической регистрацией спектра" и другим МВИ.

Диапазон размеров генерируемых частиц 3 – 500 нм Диапазон концентраций генерируемых частиц 102– 107 см-3 Напряжение питания 220 В Потребляемая мощность 70 Вт Вес до 3 кг Условия эксплуатации прибора: - температура окружающей среды 10 – 40 ºС - относительная влажность воздуха до 90 % - атмосферное давление 85 – 106 кПа.

Измеряемые параметры активность ионов (pX) молярная (М) концентрация ионов (моль/л) массовая (С) концентрация ионов (мг/л) ЭДС электродных систем (мВ) окислительно-восстановительный потенциал Eh (мВ) удельная электрическая проводимость (мСм/см) общая минерализация в пересчете на NaCl и другие электролиты (г/л) температуры водных сред (°C) Потенциометрический каналЭДС, Eh, mВ диапазон ± 2000 дискретность 1 погрешность ± 2 pH (pX) диапазон -2...14 дискретность 0,01 погрешность ± 0,02 ATK диапазон 0...60 °C погрешность 0,04 ед. pH Кондуктометрический канал УЭП, мСм/см диапазон 0,001...100 дискретность 0,0001...0,1 погрешность ± 2% С NaCl, г/л диапазон 0,0005...20 дискретность автовыбор погрешность ± 3% ATK диапазон 0...50 °C погрешность ± 1%.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Измеряется величина тока на электрод, помещенный в плазму, в зависимости от величины приложенного пилообразного напряжения, то есть определяется зондовая вольтамперная характеристика (ВАХ). ВАХ позволяет определить локальные, в области нахождения электрода, параметры невозмущенной плазмы. При помощи встроенного математического аппарата вычисляется плотность плазмы и оценивается ее температура на основе измеренной ВАХ. Особенности Если в плазму вводятся два малых одинаковых электрода на близком расстоянии, и напряжение подается между ними, зонд Ленгмюра работает в режиме двойного зонда. Такой режим установлен по умолчанию, он позволяет диагностировать параметры высокочастотной или нестационарной плазмы, практически не возмущая её, т.к. электроды полностью гальванически изолированы от разрядной камеры. В режиме одиночного зонда пилообразное напряжение подается на электрод, который введен в плазму, относительно опорного электрода, которым может быть металлическая стенка разрядной камеры. Преимущество Манипулятор позволяет осуществлять аксиальное и радиальное позиционирование датчика в пространстве рабочей камеры и определять распределение концентрации плазмы или оценивать ее однородность. Надежность, техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы.

Двухстадийный сухой магнитный сепаратор валкового типа для разделения частиц по магнитным свойствам.

Полевая модульная геологическая обогатительная установка (ПМГОУ) предназначена для обогащения и изучения поисковых геологических проб для освоения поиска и разведки новых месторождений.

Сушильный шкаф предназначен для проведения аналитических работ с различными материалами, а также для проведения разнообразных видов термообработки при температурах до +500˚С в стационарных условиях. Сушильный шкаф рассчитан для работы при температуре окружающего воздуха от +10˚С до +35˚С и относительной влажности до 80% при температуре +25˚С.