Поиск

Сушильный шкаф предназначен для проведения аналитических работ с различными материалами, а также для проведения разнообразных видов термообработки при температурах до +250˚С в стационарных условиях. Сушильный шкаф рассчитан для работы при температуре окружающего воздуха от +10˚С до +35˚С и относительной влажности до 80% при температуре +25˚С.

Предназначен для горнодобывающей промышленности, пищевой промышленности и сельского хозяйства, химической, нефтехимической и др. Для городских и удаленных мест эксплуатации. Возможна работа со стандартным генератором гидридов и определение гидридообразующих элементов с низкими пределами обнаружения - ртуть, селен, сурьма, мышьяк.

Для лучшего результата оптимизирован специально для телескопов ASTROSIB - Диаметр линз 100 мм - Многослойное просветляющие покрытие на диапазон спектра 400 – 900 Нм - Задний отрезок 205 мм (от поверхности последней линзы до фокальной плоскости) - Устанавливается в задний фланец телескопа независимо от удлинительных колец и не изменяет положение фокальной плоскости.

Дробилка щековая лабораторная ДЩЛ 180х250 предназначена для дробления горных пород с пределом прочности на сжатие до 280 МПа. Конструкция дробилки предусматривает возможность полного визуального осмотра дробильной камеры и зачистки рабочих поверхностей дробящих плит и футеровочных листов. Данная конструктивная особенность дает преимущество при использовании дробилки для обработки геологических проб, так как позволяет исключить их заражение, тем самым повысить достоверность проб.

Печь муфельная предназначена для проведения аналитических работ с различными материалами, а также для проведения разнообразных видов термообработки при температурах до +500˚С в стационарных условиях. Печь муфельная рассчитана для работы при температуре окружающего воздуха от +10˚С до +35˚С и относительной влажности до 80% при температуре +25˚С.

Гравитационно-центробежное обогащение измельченных руд или песков, содержащих тонкие и мелкие частицы свободных драгоценных металлов или других минералов с большим удельным весом.

Предназначена для измерения методом нарушенного полного внутреннего отражения с одновременной визуализацией микрообъекта на встроенном и внешнем мониторе, а также методом зеркально-диффузного отражения с углом падения 45о при верхнем расположении образца. Приставка в режиме однократного НПВО используется для регистрации спектров поглощения: жидкостей любой степени вязкости (растворов, суспензий, масел и т.д.), в том числе, обладающих высокой химической активностью; цельных объектов произвольной формы, включая образцы с очень высокой твердостью (любые полимеры, фрагменты лакокрасочных покрытий и т.д.); порошкообразных веществ, включая порошки с очень высокой твердостью (наркотики, фармпрепараты, взрывчатые вещества, неорганические соединения); образцов в виде тонких пленок; образцов в виде волокон. Максимальная твердость и химическая стойкость алмаза существенно расширяют возможности метода; отсутствует необходимость в периодической замене кристалла. Приставка позволяет регистрировать спектры без трудоемкой пробоподготовки, а наличие системы визуального контроля исследуемой поверхности с качественной видеокамерой и встроенным мини-монитором высокой четкости повышает эффективность при работе с малоразмерными образцами – фрагментами тонких волокон, микрочастицами и т.п. Встроенный монитор имеет функции цифрового 10Х увеличения (ZOOM), инвертирования и пр. Изображение может быть одновременно выведено на экран компьютера (используется USB-интерфейс) с последующим сохранением в виде файла. Съемный фланец обеспечивает быструю и удобную смену образцов и очистку поверхности кристалла. Конструкция с выступающим над базовой плоскостью алмазным элементом НПВО позволяет исследовать образцы с достаточно большими габаритными размерами. Высокое качество и повторяемость результатов достигается благодаря отсутствию влияния толщины слоя вещества на форму спектра и интенсивность полос поглощения. Образец сохраняет исходные физико-химические свойства и, при необходимости, может быть в дальнейшем исследован другими методами. Универсальный прижим приставки оснащен прецизионным рычажным механизмом для быстрого опускания наконечника и микрометрическим винтом, позволяющим предварительно устанавливать оптимальную степень давления – это обеспечивает быстроту смены проб и повторяемость результатов при измерениях. Для удобства при работе с жидкими и пастообразными образцами, а также в режиме ЗДО, предусмотрена возможность поворота консоли прижима на 180о. Приставка укомплектована двумя сменными наконечниками – со сферической рабочей частью и с плоской шарнирной головкой. Высокая твердость алмаза позволяет использовать большие усилия прижима, что является определяющим фактором для получения качественных спектров. Для регистрации спектров зеркального и диффузного отражения (ЗДО) применяется сменный столик. Образец располагается на предметной плоскости исследуемой поверхностью вниз. Метод используется для определения спектральных характеристик оптических деталей, тонких пленок на поверхности, кристаллов, прочих крупных цельных объектов произвольной формы и размера.

Сушильный шкаф предназначен для проведения аналитических работ с различными материалами, а также для проведения разнообразных видов термообработки при температурах до +350˚С в стационарных условиях. Сушильный шкаф рассчитан для работы при температуре окружающего воздуха от +10˚С до +35˚С и относительной влажности до 80% при температуре +25˚С.

Терминал контроля доступа с измерением температуры (модель «Т1Т») предназначен для обеспечения контроля доступа сотрудников, либо посетителей на территорию объектов инфраструктуры с идентификацией посетителей по биометрическому признаку - лицу, с одновременным контролем температуры. Внедрение в пропускную систему организации изделия "Т1Т" с автоматизированными системами идентификации человека и дистанционного контроля температуры, является актуальной для предотвращения распространения инфекционных заболеваний, сопровождающихся повышенной температурой.

Диаметр главного зеркала 250 мм Относительное отверстие главного зеркала F/3 Диаметр вторичного зеркала 102 мм Эквивалентное относительное отверстие F/8 Эквивалентное фокусное расстояние 2000 мм Вынос фокальной плоскости за вершину главного зеркала 291 мм Расстояние между зеркалами 466 мм Толщина главного зеркала 30 мм Толщина вторичного зеркала 15 мм Диаметр центрального отверстия в главном зеркале 90 мм Материал зеркал ЛK-7 (Оптическое стекло с низким температурным коэффициентом линейного расширения) По договоренности может быть изготовлена оптика из Ситалла Точность оптики искажения волнового фронта всей системы 1/4λ или меньше, среднеквадратичное отклонение (RMS) 1/25λ или меньше, критерий Штреля 0.95, или больше Покрытия зеркал Al + SiO2 (кварц)

Сушильный шкаф предназначен для сушки и испытания материалов при температуре в атмосфере воздуха. Рассчитан для работы при температуре окружающего воздуха от -10˚С до +50˚С и относительной влажности до 80% при температуре +25˚С.