Поиск

Высоковольтные источники питания для установки в серверную стойку и настольное исполнение, отличительные черты: 🔸 выходное напряжение от 1 кВ до 160 кВ; 🔸 мощностью от 10 Вт до 20 кВт; 🔸 пульсации менее 0.1%; 🔸 полный комплекс защит; 🔸 КПД более 90%; 🔸 цифровые интерфейсы: RS-232, RS-485, USB, Ethernet; 🔸 Температурная стабильность 50 ppm/⁰C. Сферы применения: электростатические фильтры, обработка полупроводниковых материалов, электронно-лучевая сварка, зарядка конденсаторов, высокомощные радиочастотные передатчики, высокомощные радиолокационные системы, рентгеновские системы, ионная имплантация, НИОКР, Тестовое оборудование, источник опорного питания.

Материал столешниц можно подобрать исходя из поставленных задач. Столы лабораторные островные серии Классик LAB поставляются в комплекте с верхней полкой. Материал столешниц: • ЛДСП; • HPL; • HPL PLUS; • Нержавеющая сталь; • Керамогранит; • Ceramic granite PRO. Дополнительная комплектация: • Лабораторные тумбы; • Сервисные надстройки; • Стол угловой лабораторный 1200 × 500 мм (ЛДСП, HPL, HPL PLUS); • Нижняя полка ПО/2 глубиной 300/400 мм выдерживает нагрузку до 100 кг. Габаритные размеры столов ШхГ ММ.: • СО-10-7 Остров LAB RAL 9010 - 1000 × 1400; • СО-12-7 Остров LAB RAL 9010 - 1200 × 1400; • СО-15-7 Остров LAB RAL 9010 - 1500 × 1400; • СО-18-7 Остров LAB RAL 9010 - 1800 × 1400. Сервисные надстройки для островных столов поставляется в комплекте с одной полкой (входит в базовую комплектацию) или двумя полками (заказывается отдельно), глубиной 300 или 400 мм, выполненными из ЛДСП или пластика (HPL, HPL PLUS). Допустимая нагрузка на полки до 50 кг. Габаритные размеры дополнительной полки ШхГ ММ.: • ПО-О-10/1 LAB RAL 9010 - 1000 × 300 / 1000 × 400; • ПО-12/1 LAB RAL 9010 - 1200 × 300 / 1200 × 400; • ПО-О-15/1 LAB RAL 9010 - 1500 × 300 / 1500 × 400; • ПО-О-18/1 LAB RAL 9010 - 1800 × 300 / 1800 × 400. ДОПОЛНИТЕЛЬНАЯ КОМПЛЕКТАЦИЯ для островных лабораторных столов ШИРИНЫ ММ.: • Панель перфорированная стальная ПФП-О-х LAB RAL 9010 - 1000/1200/1500/1800; • Панель электромонтажная ЭПА-О-х - 1000/1200/1500/1800; • Освещение общее светодиодное ДЛ-О-х/С2 Остров LAB RAL 9010 - 1000/1200/1500/1800; • Освещение общее светодиодное с диммером ДЛ-О-х/С2-Д Остров LAB RAL 9010 - 1000/1200/1500/1800; Для удобства подбора интересующей вас комплектации воспользуйтесь нашим онлайн-конструктором на сайте https://clck.ru/34dZxK

Спектрофлуориметр «СОЛАР» обеспечивает высокочувствительные и стабильные измерения в ультрафиолетовой и видимой областях спектра. Прибор применяется для проведения различных исследований в научных лабораториях, промышленных лабораториях, учреждениях здравоохранения, ветеринарии, фармацевтики, экологии, криминалистики и т.п. 4 прибора в одном Высокая точность измерений Выделяемый спектральный интервал – постоянный Автоматическая коррекция спектров Анализ фотонестабильных проб Программная поддержка Измерительные функции: Измерение спектров флуоресценции и фосфоресценции (возбуждения, испускания, синхронных, поляризации, температурных), а также спектров поглощения (пропускания) жидких и твёрдых образцов Измерение хемилюминесценции Определение концентрации образцов по флуориметрическим и фотометрическим методикам с использованием фактора, калибровки по одной точке, многоточечной калибровочной кривой Кинетические измерения на одной, двух, трех длинах волн Измерения относительного квантового выхода Многоволновые измерения люминесценции и поглощения Измерение спектров зависимости флуоресценции и фосфоресценции от температуры Измерение времени жизни фосфоресценции Выводит результаты в 3D спектров.

Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники; Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности. Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации. Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей. Особенности • Полная автоматизация установки: управление вакуумными агрегатами, мощностью нагревателей, подачей газов, а также электромеханическими элементами. • Нагревательные элементы и зона нагрева выполнены из вольфрама, что позволяет нагревать изделия до 2000 °C.; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме; • Материалы, использованные для изготовления тепловых экранов - молибден, вольфрам и жаростойкая нержавеющая сталь; • Экраны крышек выполнены таким образом, что образуют тепловой замок; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию; • В установке реализована возможность работы в среде инертных газов, формир-газа и их смеси; • Типичная загрузка обрабатываемого материала до 5 кг; Преимущества Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 2000°C. При этом реализованы 2 варианта настройки программы работы печи: • по температуре нагревателя (OTC), температурный сенсор в области нагревателя; • по температуре загрузки (STC), температурный сенсор в зоне нагрева над загрузкой. Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1); Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С; Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора; При проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов;

Печь EPOS-VACFURN-DESK-1300 c вертикально расположенной вакуумной камерой, с поднимающимся с помощью ручного привода колпаком камеры. Источник питания и управления расположен в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение вакуума лучше 1,3·10-2 Па (в холодном состоянии). Печь оснащена рубашкой охлаждения, высокотемпературным нагревателем и предельно проста в эксплуатации. Опционально возможна установка регулятора расхода газов для проведения нагрева в атмосфере высокой чистоты различных инертных, восстановительных газов и их смесей. ОСОБЕННОСТИ • Конструкция и материалы нагревательных элементов и зоны нагрева позволяет нагревать изделия до 1250 °C кратковременно и 1200 °C длительно с термопарой типа К, и 1300 °C с термопарой типа N; • Прозрачное окно на колпаке камеры позволяет визуально контролировать процессы в рабочей зоне; • Полностью безмасляная откачка; • Конструкция кронштейна обеспечивает удобный подъем колпака и отвод его в сторону для удобства смены образцов, а также препятствует опрокидыванию камеры. • Предельные габаритные размеры обрабатываемых образцов 60х60х60; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме с помощью ПИД-регулятора; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Пошаговое ПИД-регулирование – 3 программы технолога по 5 шагов; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева, обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию. ПРЕИМУЩЕСТВА Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 1300°C. Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов при проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами, чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора. Возможность заказа печи с различной системой высоковакуумной откачки и без нее, а также дополнительная опция с установкой регулятора расхода газов, позволяют расширить возможности и сконфигурировать печь непосредственно для Ваших задач.

Полный цикл создания литьевой пресс-формы: - изготовление пресс-форм по вашим чертежам; - проектирование пресс-форм; - проектирование 3Д модели изделия/адаптация вашего изделия под литьё; - изготовление пресс-формы на станках металлообработки; - тестирование работоспособности и качества созданной пресс-формы; - литьё изделий по произведенным пресс-формам; - сборка и упаковка изделий; - доставка изделия до клиента собственным транспортом.

Технические характеристики: Габаритные размеры не более (ШхГхВ) - 1150х640х760 мм; Масса камеры не более - 500 кг; Мощность амбиентного эквивалента дозы рентгеновского излучения в любой доступной точке на расстоянии 0,1 м от поверхности камеры не более - 1,0 мкЗв/ч; Питание аппарата - 230/50 В/Гц; Потребляемая мощность не более - 1000 Вт; Диапазон анодного напряжения - 50-135 кВ; Шаг регулировки анодного напряжения - 1 кВ; Диапазон анодного тока - 0,05-0,15 мА; Шаг регулировки анодного тока - 0,01 с; Максимальная мощность на аноде рентгеновской трубки не более - 20 Вт; Материал мишени рентгеновской трубки - рений (Re); Материал выходного окна рентгеновской трубки - бериллий (Be); Номинальный размер эффективного фокусного пятна не более - 0,03 мм; Минимальное фокусное расстояние - 5 мм; Угол выхода рентгеновского излучения не менее - 90 ˚; Режим работы - непрерывный; Система охлаждения анода рентгеновской трубки - жидкостная, принудительная; Сигнализация включенного рентгеновского излучения - наличие, светозвуковая; Регулируемые параметры источника рентгеновского излучения - анодное напряжение, анодный ток, время экспозиции; Способ получения рентгеновского изображения - цифровой, с выводом изображения на экран монитора; Расположение системы компьютерной рентгенографии - встроенное в РЗК; Размер чувствительной области детектора не менее - 114х145 (430х430)* мм; Размер пикселя детектора не более - 49,5 (139)* мкм; Разрядность АЦП - 14 бит; Специализированное ПО - наличие. * В комплектации представлено два типа детектора на выбор.

Технические характеристики: Габаритные размеры не более (ШхГхВ) - 780х780х1200 мм; Масса камеры не более - 400 кг; Мощность амбиентного эквивалента дозы рентгеновского излучения в любой доступной точке на расстоянии 0,1 м от поверхности камеры не более - 1,0 мкЗв/ч; Питание аппарата - 230/50 В/Гц; Потребляемая мощность не более - 1000 Вт; Диапазон анодного напряжения - 50-100 кВ; Шаг регулировки анодного напряжения - 1 кВ; Диапазон анодного тока - 0,05-0,15 мА; Шаг регулировки анодного тока - 0,01 мА; Максимальная мощность на аноде рентгеновской трубки не более - 15 Вт; Материал мишени рентгеновской трубки - рений (Re); Материал выходного окна рентгеновской трубки - бериллий (Be); Номинальный размер эффективного фокусного пятна не более - 0,03 мм; Минимальное фокусное расстояние - 5 мм; Угол выхода рентгеновского излучения не менее - 90 ˚; Режим работы - непрерывный; Система охлаждения анода рентгеновской трубки - жидкостная, принудительная; Сигнализация включенного рентгеновского излучения - наличие, светозвуковая; Регулируемые параметры источника рентгеновского излучения - анодное напряжение, анодный ток, время экспозиции; Способ получения рентгеновского изображения - цифровой, с выводом изображения на экран монитора; Расположение системы компьютерной рентгенографии - встроенное в РЗК; Размер чувствительной области детектора не менее - 114х145 мм; Размер пикселя детектора не более - 49,5 мкм; Разрядность АЦП - 14 бит; Специализированное ПО - наличие.

Установка получения раствора гипохлорита натрия проточного типа (далее - установка) представляет собой комплект оборудования для получения гипохлорита натрия из раствора поваренной соли и дозирование заданного количества гипохлорита натрия. Производительность установки от 1 до 2 кг/час активного хлора, концентрация активного хлора в растворе 5 г/литр, напряжение питания 24В, ток - 300-600А. В состав установки входят: резервуар мокрого хранения соли с насосом-дозатором; электролизер проточного типа; щит управления процессом; выпрямитель; емкость накопительная для раствора гипохлорита натрия; насос-дозатор подачи раствора гипохлорита натрия; контур очистки электролизера от солей жесткости. Насыщенный раствор поваренной соли из резервуара мокрого хранения насосом-дозатором подается на разбавление водой до необходимой концентрации и далее в электролизер. Полученный в электролизере раствор гипохлорита натрия поступает в емкость накопительную, откуда насосом-дозатором подается по назначению. Работа установки осуществляется в автоматическом режиме. Обслуживающий персонал необходим для наблюдения за работой установки, контролем за расходом раствора гипохлорита натрия и его концентрацией. Наше предприятие готово оказать услуги по монтажу и пуско-наладке установки.

Генератор водорода (электролизер) серии А – это установка на стандартной платформе производительностью от 2 до 10 Нм3/ч по водороду в зависимости от комплектации. Платформа А позволяет размещать до трех электролизных модулей. Возможна доукомплектация в сторону увеличения производительности непосредственно на площадке заказчика. Все оборудование построено на базе РЕМ-технологии без использования щелочи. Платформа А представляет собой 2 шкафа, соединенных между собой: шкаф процесса и электрошкаф. В шкафу процесса размещены электролизные модули, водяная подсистема, газовая подсистема. В электрошкафу размещены блоки питания (выпрямители), система управления, система безопасности, интерфейс пользователя. Шкафы в базовой конфигурации скреплены между собой в виде единого блока, но возможно их размещение в отдельных помещениях. Производительность по водороду - 2-10 Нм3/час Производительность по водороду - 4,3 - 21,6 кг/сутки Диапазон регулировки производительности по водороду От 0 % до 100 % от номинальной производительности Максимальное давление водорода на выходе, регулируемое - 30 атм (3 Мпа) Чистота производимого водорода - 99,9998 % Точка росы производимого водорода -70 °С Содержание примеси кислорода в водороде - менее 1 ppm объемных Содержание других примесей в водороде - менее 2 ppm объемных Потребляемая мощность (установка целиком) - 6,2 - 6,8 кВт*ч/Нм3 Размеры (ШхВхГ) -2,2 х 2,1 х 0,8 м

Изделие обеспечивает контроль и измерение параметров СВЧ транзисторов, усилителей мощности, фазовращателей, модулей ИС в лабораторных и цеховых условиях в процессе их разработки, ИФХ-20 представляет собой автоматизированный измерительный комплекс для измерения амплитудно-фазовых характеристик в частотном диапазоне от 0,16 до 20,0 ГГц в автоматическом и ручном режимах. Отличие ручного режима от автоматического состоит в возможности работы оператора в отдельных частотных точках. ИФХ-20 предназначен для измерения фазо-частотных характеристик активных и пассивных ВЧ и СВЧ-устройств. ИФХ-20 обеспечивает контроль и измерение параметров СВЧ транзисторов, усилителей мощности, фазовращателей, модулей ИС в лабораторных и цеховых условиях в процессе их разработки, производства и выходного контроля.

MIM-гранулы M-Shape 17-4PH — это специализированный материал на основе нержавеющей стали для производства деталей методом литья металлов под давлением (Metal Injection Molding, MIM), а также для 3D-печати с использованием FDM/FGF-технологий. Благодаря высокому содержанию (91%) тонкодисперсного металлического порошка и тщательно подобранному гранулометрическому составу, материал позволяет получать изделия с высокой прочностью, коррозионной стойкостью и технологичностью. Ключевые преимущества и особенности: - Массовая доля металла — 91%, частицы 0–25 мкм, плотность 4.65 г/см³. - Высокая прочность и коррозионная стойкость после правильного спекания, включая возможность термообработки. - Совместимость с технологиями FGF и литья металлов под давлением. - Требуется сушка гранул перед печатью: 2 ч при 50°C. - Процесс вымывания: гептан, 60–65°C, 12–16 часов; финальная промывка 30 мин, затем сушка (вакуумный шкаф 40 °C, 2 ч или сушильный шкаф 50 °C, 8 ч). - Объемная усадка после спекания: около 45.5% — необходимо закладывать при проектировании моделей. - Механические свойства конечных изделий зависят от правильного соблюдения всех этапов MIM-процесса. Рекомендация для FGF-печати использовать: - Температура сопла/печати: 230–250 °C. - Температура печатной платформы: 100–110 °C. - Материал платформы: PEI, стекло. - Скорость печати: 10–60 мм/с. - Стальное сопло (диаметр по требованию задачи). Рекомендация для литья по MIM-технологии: - Температура расплава: 230–250 °C. - Температура пресс-формы: 70 °C.