Поиск

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Печь EPOS-VACFURN-DESK-1300 c вертикально расположенной вакуумной камерой, с поднимающимся с помощью ручного привода колпаком камеры. Источник питания и управления расположен в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение вакуума лучше 1,3·10-2 Па (в холодном состоянии). Печь оснащена рубашкой охлаждения, высокотемпературным нагревателем и предельно проста в эксплуатации. Опционально возможна установка регулятора расхода газов для проведения нагрева в атмосфере высокой чистоты различных инертных, восстановительных газов и их смесей. ОСОБЕННОСТИ • Конструкция и материалы нагревательных элементов и зоны нагрева позволяет нагревать изделия до 1250 °C кратковременно и 1200 °C длительно с термопарой типа К, и 1300 °C с термопарой типа N; • Прозрачное окно на колпаке камеры позволяет визуально контролировать процессы в рабочей зоне; • Полностью безмасляная откачка; • Конструкция кронштейна обеспечивает удобный подъем колпака и отвод его в сторону для удобства смены образцов, а также препятствует опрокидыванию камеры. • Предельные габаритные размеры обрабатываемых образцов 60х60х60; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме с помощью ПИД-регулятора; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Пошаговое ПИД-регулирование – 3 программы технолога по 5 шагов; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева, обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию. ПРЕИМУЩЕСТВА Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 1300°C. Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов при проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами, чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора. Возможность заказа печи с различной системой высоковакуумной откачки и без нее, а также дополнительная опция с установкой регулятора расхода газов, позволяют расширить возможности и сконфигурировать печь непосредственно для Ваших задач.

Высоковольтные источники питания для установки в серверную стойку и настольное исполнение, отличительные черты: 🔸 выходное напряжение от 1 кВ до 160 кВ; 🔸 мощностью от 10 Вт до 20 кВт; 🔸 пульсации менее 0.1%; 🔸 полный комплекс защит; 🔸 КПД более 90%; 🔸 цифровые интерфейсы: RS-232, RS-485, USB, Ethernet; 🔸 Температурная стабильность 50 ppm/⁰C. Сферы применения: электростатические фильтры, обработка полупроводниковых материалов, электронно-лучевая сварка, зарядка конденсаторов, высокомощные радиочастотные передатчики, высокомощные радиолокационные системы, рентгеновские системы, ионная имплантация, НИОКР, Тестовое оборудование, источник опорного питания.