Поиск

Изготовлены из металлического профиля, покрытого химически стойкой краской, оснащены колесными опорами, две из которых со стопорным механизмом. Материал столешниц можно подобрать исходя из поставленных задач. Полки у подкатных стоек могут регулироваться по высоте. Имеется возможность оснащения дополнительным блоком розеток для подключения оборудования. Материал столешниц - ЛДСП. Габаритные размеры ШхГхВ ММ.: • СТ-05 LAB RAL 9010 - 600×510×1640; • СТ-05 Комфорт LAB RAL 9010 - 700×470×1635; • СТ-06 LAB RAL 9010 - 600×500×1605.

МИК-ИС обеспечивает электропитание напряжением переменного тока 220 В, 50 Гц. Инверторная система питается от цепи постоянного напряжения телекоммуникационного оборудования 48 В. Оператор может дистанционно управлять параметрами МИК-ИС по LAN. Сделано в России при поддержке Минпромторга РФ. Оперативная служба поддержки. «Холодный старт» при температуре до −40 °С в режиме ограниченной функциональности. Унифицированное масштабирование выходной мощности переменного тока в инверторной системе кратно модулям высотой 1U: для систем до 3 кВт высота 1U, до 6 кВт — 2U и т.д.. Программа верхнего уровня для АРМ оператора для управления и мониторинга параметров инверторной системы.

Предназначен для ослабления сигнала в непрерывном и импульсном режимах в цепях постоянного и переменного токов.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.

Описание Основной принцип обеспечения чистоты в ламинарных боксах заключается в отделении объема воздуха барьером от окружающего пространства и организации подачи в этот объем большого количества очищенного воздуха для купирования посторонних загрязнений. В тоже время, наряду с эффективностью защиты, ламинарные боксы затрудняют доступ к защищаемому объекту и осложняют манипуляции с ним. В нашем техническом решении барьер образуется за счет ламинарного, однонаправленного, очищенного воздушного потока произвольной ориентации с низкой скоростью. Профиль скорости в начальном сечении струи формируется посредством запатентованного устройства. Оно позволяет при небольшой длине канала создать профиль скорости, обеспечивающий длинный ламинарный участок чистой струи. Преимущества полный доступ к защищенному объекту несмешивающаяся с окружающей средой струя длина струи до 1 метра диаметр выходного сечения до 0,5 метра средняя скорость потока 0,5 м/с подвижный штатив подвижный блок подготовки воздуха

Измеряется величина тока на электрод, помещенный в плазму, в зависимости от величины приложенного пилообразного напряжения, то есть определяется зондовая вольтамперная характеристика (ВАХ). ВАХ позволяет определить локальные, в области нахождения электрода, параметры невозмущенной плазмы. При помощи встроенного математического аппарата вычисляется плотность плазмы и оценивается ее температура на основе измеренной ВАХ. Особенности Если в плазму вводятся два малых одинаковых электрода на близком расстоянии, и напряжение подается между ними, зонд Ленгмюра работает в режиме двойного зонда. Такой режим установлен по умолчанию, он позволяет диагностировать параметры высокочастотной или нестационарной плазмы, практически не возмущая её, т.к. электроды полностью гальванически изолированы от разрядной камеры. В режиме одиночного зонда пилообразное напряжение подается на электрод, который введен в плазму, относительно опорного электрода, которым может быть металлическая стенка разрядной камеры. Преимущество Манипулятор позволяет осуществлять аксиальное и радиальное позиционирование датчика в пространстве рабочей камеры и определять распределение концентрации плазмы или оценивать ее однородность. Надежность, техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы.

Описание Основной принцип обеспечения чистоты в ламинарных боксах заключается в отделении объема воздуха барьером от окружающего пространства и организации подачи в этот объем большого количества очищенного воздуха для купирования посторонних загрязнений. В тоже время, наряду с эффективностью защиты, ламинарные боксы затрудняют доступ к защищаемому объекту и осложняют манипуляции с ним. В нашем техническом решении барьер образуется за счет ламинарного, однонаправленного, очищенного воздушного потока произвольной ориентации с низкой скоростью. Профиль скорости в начальном сечении струи формируется посредством запатентованного устройства. Оно позволяет при небольшой длине канала создать профиль скорости, обеспечивающий длинный ламинарный участок чистой струи. Преимущества несмешивающаяся с окружающей средой струя сплошная или перфорированная столешица полный доступ к защищенному объекту возможность подключения вытяжной вентиляционной системы

Модули приемо-передающие для электрических линий связи в SFP металлических корпусах с раздельным оптическим входом/выходом под электрический разъем типа RJ-45 для передачи данных по витой паре категории 5.

А-Сигнал РЗА ПРО — это универсальное устройство обнаружения и определения направления межфазных коротких замыканий (МФЗ), однофазных замыканий на землю (ОЗЗ) на кабельных линиях распределительных электросетей напряжением 6-36 кВ на 1 секцию при не менее 3-х кабельных присоединений. Прибор также выполняет функции релейной защиты автоматики (РЗА) по отключению поврежденного участка линии. Рабочие характеристики РЗА по стандартам ANSI 50 и ANSI 51. Возможность настройки 3 ступеней МТЗ. Первая ступень – с независимой выдержкой времени. Вторая и третья – с возможностью выбора характеристик из: независимая; чрезвычайно инверсная; сильно инверсная; нормально инверсная; длительно инверсная; RXIDG-типа; РТВ-I; РТ-80 (РТВ-IV). Устройство работает без перенастройки в радиальных сетях, а также в разомкнутых, замкнутых кольцевых сетях, кольцевых сетях с питанием с двух сторон, с автоматическим или ручным восстановлением энергоснабжения. А-Сигнал РЗА ПРО устанавливается без перенастройки в сетях с изолированной и компенсированной нейтралью, имеет возможность работы в сети с заземленной нейтралью.