Поиск

Предназначена для поиска и измерения параметров сигналов и шумов в миллиметровом диапазоне частот (60 — 75 ГГц) с последующим переносом спектра сигналов в рабочий диапазон анализаторов спектра с верхней границей диапазона 26 ГГц. Незаменима для работы в полевых условиях. Имеет встроенный высокостабильный опорный генератор; Не требует внешнего сигнала гетеродинов; Комплектуется внешним батарейным блоком питания (время работы от АКБ более 2 часов); Имеет низкие фазовые шумы. Технические характеристики Тип антенной системы двухзеркальная, ADE Диаметр рефлектора 250 мм Диапазон частот входных сигналов 60 — 75 ГГц Диапазон частот выходных сигналов 3 — 18 ГГц Ширина диаграммы направленности по уровню -3 дБ, не более 1,5° Коэффициент усиления (Ку) ≥ 60 дБ Коэффициент шума ≤ 18 дБ Подавление зеркального канала 50 дБ Подключение питания РС4, +12В Габаритные размеры 288 × 250 × 241 мм Вес 2,4 кг Тип разъёма SMA

Класс точности: 0,04% Uпост.: 200 мВ, (2, 20, 200, 1000) В ±(0,04 – 0,05)% Iпост.: 2 А (разрешение 10 мкА) ±0,15% Uперем.: (20 Гц – 100 кГц): 200 мВ, (2, 20, 200, 700) В ±(0,5 – 5)% I переем.: (40 Гц – 5 кГц): 2 А (разрешение 10 мкА) ±0,8% Rпост.: 200 Ом, (2, 20, 200, 2000) кОм, 20 МОм, 2 ГОм ±(0,15 – 0,5)% Частота: 20 Гц – 1 МГц, ±0,03% Период: 100 мкс – 50 мс, ±0,1% Индикатор: 5,5 разряда (ЖКИ) Питание: ~230 В, 20 В·А Габариты, масса: 310×268×100 мм, 3,2 кг

Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники; Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности. Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации. Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей. Особенности • Полная автоматизация установки: управление вакуумными агрегатами, мощностью нагревателей, подачей газов, а также электромеханическими элементами. • Нагревательные элементы и зона нагрева выполнены из вольфрама, что позволяет нагревать изделия до 2000 °C.; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме; • Материалы, использованные для изготовления тепловых экранов - молибден, вольфрам и жаростойкая нержавеющая сталь; • Экраны крышек выполнены таким образом, что образуют тепловой замок; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию; • В установке реализована возможность работы в среде инертных газов, формир-газа и их смеси; • Типичная загрузка обрабатываемого материала до 5 кг; Преимущества Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 2000°C. При этом реализованы 2 варианта настройки программы работы печи: • по температуре нагревателя (OTC), температурный сенсор в области нагревателя; • по температуре загрузки (STC), температурный сенсор в зоне нагрева над загрузкой. Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1); Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С; Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора; При проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов;

Описание Основной принцип обеспечения чистоты в ламинарных боксах заключается в отделении объема воздуха барьером от окружающего пространства и организации подачи в этот объем большого количества очищенного воздуха для купирования посторонних загрязнений. В тоже время, наряду с эффективностью защиты, ламинарные боксы затрудняют доступ к защищаемому объекту и осложняют манипуляции с ним. В нашем техническом решении барьер образуется за счет ламинарного, однонаправленного, очищенного воздушного потока произвольной ориентации с низкой скоростью. Профиль скорости в начальном сечении струи формируется посредством запатентованного устройства. Оно позволяет при небольшой длине канала создать профиль скорости, обеспечивающий длинный ламинарный участок чистой струи. Преимущества полный доступ к защищенному объекту несмешивающаяся с окружающей средой струя длина струи до 1 метра диаметр выходного сечения до 0,5 метра средняя скорость потока 0,5 м/с подвижный штатив подвижный блок подготовки воздуха

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.