Поиск

Высоковольтные источники питания на печатную плату, отличительные черты: 🔸 фиксированное или регулируемое выходное напряжение; 🔸 выходное напряжение от 65 до 40 000 В; 🔸 мощностью от 1 до 125 Ватт; 🔸 низкий уровень пульсаций (до 0.005%); 🔸 полный комплекс защит; 🔸 мониторы тока и напряжения; 🔸 цифровые интерфейсы (опция). Сферы применения: фотоумножители (ФЭУ/ PMT), масс-спектрометры, газовые хроматографы, импульсные генераторы, детекторы элементарных частиц, электростатика, сканирующие электронные микроскопы, трубки/счетчики Гейгера-Мюллера, микроканальные пластины, источник опорного питания/напряжения, лазерная техника, модуляторы, радарная техника.

СУ предназначены для обеспечения штатной работы ВЧ генераторов с ак-тивным выходным сопротивлением 50 Ом на нагрузки с комплексным входным импедансом, к числу которых относятся (перечень не полный): ‒ технологические установки ионно-плазменной обработки материа-лов; ‒ газовые лазеры; ‒ ионно-плазменные электрические ракетные двигатели; ‒ технологические установки ВЧ нагрева, в том числе ICR нагрева плазмы в установках ТОКАМАК; ‒ разгонные секции ускорителей заряженных частиц; ‒ научные установки исследования физики поля и плазмы. СУ обеспечивают настройку согласования в ручном режиме с визуальным отображением остаточного импеданса на диаграмме Вольперта – Смита выво-димой на экран подключенного к СУ внешнего ПК. Управление элементами настройки СУ осуществляется или с внешнего ПК или простыми сухими контактами через специальный разъем. Подключение внешнего ПК осуществляется через порт RS-485. СУ обеспечивают работу с сигналом, как в непрерывном режиме, так и в режиме амплитудной модуляции.

Позволяет одновременно дробить и сокращать геологические пробы горных пород, руд, керамики, огнеупоров, строительных материалов при их подготовке к аналитическим исследованиям. Характерные особенности: Состоит из надежной лабораторной щековой дробилки классического типа и эффективного делителя дробленого продукта. Примеры материалов: Руды, уголь, кокс, керамика, стеатит, электротехнический фарфор, шамот, боксит, кварц, клинкер, гипс, мел, стеклоцемент, стекло, керны, осадки сточных вод и др. Техническая характеристика АДД 100х200 Размер загрузочного отверстия, мм 100х200 Крупность исходного питания, мм, не более 90 Ширина разгрузочной щели, мм, не более 2-15 Производительность, кг/ч (в зависимости от крупности материала) при щели 10 мм, не более 300 Мощность электродвигателя дробилки, кВт 2,2 Мощность электродвигателя делителя, кВт 0,25 Полный объем всех пробоприемников, дм3 10 Степень сокращения от 1/2 до 1/8 Габаритные размеры, мм, не более Длина 850 Ширина 620 Высота 1230 Масса, кг 310 .

Материал столешниц можно подобрать исходя из поставленных задач. Столы лабораторные островные серии Классик LAB поставляются в комплекте с верхней полкой. Материал столешниц: • ЛДСП; • HPL; • HPL PLUS; • Нержавеющая сталь; • Керамогранит; • Ceramic granite PRO. Дополнительная комплектация: • Лабораторные тумбы; • Сервисные надстройки; • Стол угловой лабораторный 1200 × 500 мм (ЛДСП, HPL, HPL PLUS); • Нижняя полка ПО/2 глубиной 300/400 мм выдерживает нагрузку до 100 кг. Габаритные размеры столов ШхГ ММ.: • СО-10-7 Остров LAB RAL 9010 - 1000 × 1400; • СО-12-7 Остров LAB RAL 9010 - 1200 × 1400; • СО-15-7 Остров LAB RAL 9010 - 1500 × 1400; • СО-18-7 Остров LAB RAL 9010 - 1800 × 1400. Сервисные надстройки для островных столов поставляется в комплекте с одной полкой (входит в базовую комплектацию) или двумя полками (заказывается отдельно), глубиной 300 или 400 мм, выполненными из ЛДСП или пластика (HPL, HPL PLUS). Допустимая нагрузка на полки до 50 кг. Габаритные размеры дополнительной полки ШхГ ММ.: • ПО-О-10/1 LAB RAL 9010 - 1000 × 300 / 1000 × 400; • ПО-12/1 LAB RAL 9010 - 1200 × 300 / 1200 × 400; • ПО-О-15/1 LAB RAL 9010 - 1500 × 300 / 1500 × 400; • ПО-О-18/1 LAB RAL 9010 - 1800 × 300 / 1800 × 400. ДОПОЛНИТЕЛЬНАЯ КОМПЛЕКТАЦИЯ для островных лабораторных столов ШИРИНЫ ММ.: • Панель перфорированная стальная ПФП-О-х LAB RAL 9010 - 1000/1200/1500/1800; • Панель электромонтажная ЭПА-О-х - 1000/1200/1500/1800; • Освещение общее светодиодное ДЛ-О-х/С2 Остров LAB RAL 9010 - 1000/1200/1500/1800; • Освещение общее светодиодное с диммером ДЛ-О-х/С2-Д Остров LAB RAL 9010 - 1000/1200/1500/1800; Для удобства подбора интересующей вас комплектации воспользуйтесь нашим онлайн-конструктором на сайте https://clck.ru/34dZxK

Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники; Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности. Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации. Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей. Особенности • Полная автоматизация установки: управление вакуумными агрегатами, мощностью нагревателей, подачей газов, а также электромеханическими элементами. • Нагревательные элементы и зона нагрева выполнены из вольфрама, что позволяет нагревать изделия до 2000 °C.; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме; • Материалы, использованные для изготовления тепловых экранов - молибден, вольфрам и жаростойкая нержавеющая сталь; • Экраны крышек выполнены таким образом, что образуют тепловой замок; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию; • В установке реализована возможность работы в среде инертных газов, формир-газа и их смеси; • Типичная загрузка обрабатываемого материала до 5 кг; Преимущества Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 2000°C. При этом реализованы 2 варианта настройки программы работы печи: • по температуре нагревателя (OTC), температурный сенсор в области нагревателя; • по температуре загрузки (STC), температурный сенсор в зоне нагрева над загрузкой. Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1); Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С; Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора; При проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов;

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Печь EPOS-VACFURN-DESK-1300 c вертикально расположенной вакуумной камерой, с поднимающимся с помощью ручного привода колпаком камеры. Источник питания и управления расположен в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение вакуума лучше 1,3·10-2 Па (в холодном состоянии). Печь оснащена рубашкой охлаждения, высокотемпературным нагревателем и предельно проста в эксплуатации. Опционально возможна установка регулятора расхода газов для проведения нагрева в атмосфере высокой чистоты различных инертных, восстановительных газов и их смесей. ОСОБЕННОСТИ • Конструкция и материалы нагревательных элементов и зоны нагрева позволяет нагревать изделия до 1250 °C кратковременно и 1200 °C длительно с термопарой типа К, и 1300 °C с термопарой типа N; • Прозрачное окно на колпаке камеры позволяет визуально контролировать процессы в рабочей зоне; • Полностью безмасляная откачка; • Конструкция кронштейна обеспечивает удобный подъем колпака и отвод его в сторону для удобства смены образцов, а также препятствует опрокидыванию камеры. • Предельные габаритные размеры обрабатываемых образцов 60х60х60; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме с помощью ПИД-регулятора; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Пошаговое ПИД-регулирование – 3 программы технолога по 5 шагов; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева, обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию. ПРЕИМУЩЕСТВА Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 1300°C. Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов при проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами, чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора. Возможность заказа печи с различной системой высоковакуумной откачки и без нее, а также дополнительная опция с установкой регулятора расхода газов, позволяют расширить возможности и сконфигурировать печь непосредственно для Ваших задач.

Технические характеристики: Габаритные размеры не более (ШхГхВ) - 780х780х1200 мм; Масса камеры не более - 400 кг; Мощность амбиентного эквивалента дозы рентгеновского излучения в любой доступной точке на расстоянии 0,1 м от поверхности камеры не более - 1,0 мкЗв/ч; Питание аппарата - 230/50 В/Гц; Потребляемая мощность не более - 1000 Вт; Диапазон анодного напряжения - 50-100 кВ; Шаг регулировки анодного напряжения - 1 кВ; Диапазон анодного тока - 0,05-0,15 мА; Шаг регулировки анодного тока - 0,01 мА; Максимальная мощность на аноде рентгеновской трубки не более - 15 Вт; Материал мишени рентгеновской трубки - рений (Re); Материал выходного окна рентгеновской трубки - бериллий (Be); Номинальный размер эффективного фокусного пятна не более - 0,03 мм; Минимальное фокусное расстояние - 5 мм; Угол выхода рентгеновского излучения не менее - 90 ˚; Режим работы - непрерывный; Система охлаждения анода рентгеновской трубки - жидкостная, принудительная; Сигнализация включенного рентгеновского излучения - наличие, светозвуковая; Регулируемые параметры источника рентгеновского излучения - анодное напряжение, анодный ток, время экспозиции; Способ получения рентгеновского изображения - цифровой, с выводом изображения на экран монитора; Расположение системы компьютерной рентгенографии - встроенное в РЗК; Размер чувствительной области детектора не менее - 114х145 мм; Размер пикселя детектора не более - 49,5 мкм; Разрядность АЦП - 14 бит; Специализированное ПО - наличие.

Генератор водорода (электролизер) серии А – это установка на стандартной платформе производительностью от 2 до 10 Нм3/ч по водороду в зависимости от комплектации. Платформа А позволяет размещать до трех электролизных модулей. Возможна доукомплектация в сторону увеличения производительности непосредственно на площадке заказчика. Все оборудование построено на базе РЕМ-технологии без использования щелочи. Платформа А представляет собой 2 шкафа, соединенных между собой: шкаф процесса и электрошкаф. В шкафу процесса размещены электролизные модули, водяная подсистема, газовая подсистема. В электрошкафу размещены блоки питания (выпрямители), система управления, система безопасности, интерфейс пользователя. Шкафы в базовой конфигурации скреплены между собой в виде единого блока, но возможно их размещение в отдельных помещениях. Производительность по водороду - 2-10 Нм3/час Производительность по водороду - 4,3 - 21,6 кг/сутки Диапазон регулировки производительности по водороду От 0 % до 100 % от номинальной производительности Максимальное давление водорода на выходе, регулируемое - 30 атм (3 Мпа) Чистота производимого водорода - 99,9998 % Точка росы производимого водорода -70 °С Содержание примеси кислорода в водороде - менее 1 ppm объемных Содержание других примесей в водороде - менее 2 ppm объемных Потребляемая мощность (установка целиком) - 6,2 - 6,8 кВт*ч/Нм3 Размеры (ШхВхГ) -2,2 х 2,1 х 0,8 м