Поиск

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Изготавливаются из тонких листов тугоплавких металлов (тантал, молибден, вольфрам и др.) и имеют специальные углубления, в которых размещается испаряемый материал. Нагрев осуществляется прямым протеканием тока. Применяются для испарения в вакууме материалов, плохо удерживающихся на проволочных испарителях. Особенности Испаритель крепится на электрических вводах специально-разработанными кронштейнами, позволяющими менять расположение и угол лодочки для получения необходимого распределения. Крепление испарителя позволяет быстро без специальных приспособлений заменить лодочку. Преимущество техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы испарителя и возможность получения покрытий различного химического состава. Комплектация • испаритель– лодочка; • пневматическая заслонка (опция); • регулируемые держатели для лодочки(опция); • изолированные токовводы; • система питания. Лодочки-испарители и компоненты: токовводы, система питания, пневматическая заслонка в различной конфигурации можно заказать отдельно!

Спектрофотометр PV1251 обеспечивает измерение спектров поглощения ипропускания, определение концентрации, кинетические и многоволновые измерения в области 315-1100 нм, предоставляя широкий выбор функций математической обработки и возможность сохранения результатов измерений при работе с компьютером.

Основные технические характеристики Диапазон длин волн, нм 400-940 Диапазон обеспечивается набором дискретных светодиодов, имеющих следующие длины волн излучения, нм 400, 440, 470, 525, 590, 670, 770, 880, 940 Диапазон измерений: - СКНП, %; - оптической плотности, Б Диапазон контроля: - оптической плотности, Б - концентрации, ед. конц. 1-100 0,03 -2 2 - 3 0,001-9999 Пределы допускаемой абсолютной погрешности при измерении СКНП, % ±1 Пределы допускаемой абсолютной погрешности при измерении оптической плотности: - в диапазоне от 0,03 до 0,5 Б, Б - в диапазоне от 0,51 до 1,09 Б, Б - в диапазоне от 1,1 до 2,0 Б, Б ± 0,015 ± 0,045 ± 0,45 Питание фотометра осуществляется: - от сети переменного тока через адаптер сетевой - от автономного источника питания напряжение 220±22В частота 50,0±0,5Гц четыре батарейки типа АА по 1,5 В каждая; четыре аккумулятора типа АА по 1,2 В каждый Мощность, потребляемая фотометром, В•А, не более 7 Габаритные размеры, мм, не более 240х200х100 Масса, кг, не более 1,6

Анализатор SIAMS PetroScanner II оснащён передовыми технологиями автоматизации оптических исследований: использование искусственного интеллекта для мгновенной автофокусировки, высокоточное автоматическое позиционирование предметного столика, автоматическая смена увеличения, высокоскоростная панорамная съёмка образца и уникальный моторизованный узел работы с поляризованным светом. Прибор оснащен: - Автоматизированным сканирующим столиком с прецизионными энкодерами по X-Y - Высокоскоростным приводом фокусировки, управляемым искусственным интеллектом - Автоматической системой вращения николей (поляризатора и анализатора) на 360º с заданным шагом поворота - Моторизованным кодированным револьвером объективов - Высокоразрешающими объективами 2х,5х,10х,20х,50х, 100х (опционально) - Кодированным LED источником проходящего света - Встроенным управляющим ПК с сенсорным экраном (для ввода управляющих команд) - Вычислительной станцией SIAMS Visual Station с системой хранения и обработки больших данных - Аналитическим программным обеспечением SIAMS

Выверка и испытания различных оптических инструментов и приборов, включая объективы телескопов и спектрофотометры. Фокусное расстояние, мм 2500±50 Диаметр входного зрачка, мм 250+5 Средняя квадратическая деформация волнового фронта для точки на оси (λ=0,63 мкм), мкм, не более 0,15 Линейное поле без виньетирования, мм 60 Диапазон фокусировки, мм ±15 Расстояние от заднего фокуса до привалочной плоскости узла фокусировки, мм 11±2 Покрытие зеркал (опционально): широкополосное алюминиевое с защитным слоем спектральный диапазон, мкм 0,4–12 спектральный коэффициент отражения в рабочем диапазоне, % , не менее 90 многослойное для длин волн, нм 532, 632, 946,1030, 1064, 1550 спектральный коэффициент отражения на рабочих длинах волн, %, не менее 95 Лучевая прочность отражающего покрытия для лазерного излучения с λ=1064 нм при длительности импульса 30 нс и периодом следования 40 Гц, Дж/см2, не менее 35 Габаритные размеры, мм 1500х560х440 Масса не более, кг 110