Поиск

69 тов.
Вид:
  • Выбрано: 1
    Применение
    Загрузка...
  • Выбрано: 0
    Название
    Загрузка...
  • Выбрано: 0
    Компания
    Загрузка...
  • Выбрано: 0
    Производство
  • Выбрано: 0
    Дополнительно
    Загрузка...
Все фильтры
  • Применение
    Загрузка...
  • 78
    Название
    Загрузка...
  • 20
    Компания
    Загрузка...
  • 12
    Производство
  • 93
    Дополнительно
    Загрузка...
Вид:
69 тов.
Зонд Ленгрмюра ЭПОС-ЛЗ
Зонд Ленгрмюра ЭПОС-ЛЗ
от 1 400 000 ₽
Измеряется величина тока на электрод, помещенный в плазму, в зависимости от величины приложенного пилообразного напряжения, то есть определяется зондовая вольтамперная характеристика (ВАХ). ВАХ позволяет определить локальные, в области нахождения электрода, параметры невозмущенной плазмы. При помощи встроенного математического аппарата вычисляется плотность плазмы и оценивается ее температура на основе измеренной ВАХ. Особенности Если в плазму вводятся два малых одинаковых электрода на близком расстоянии, и напряжение подается между ними, зонд Ленгмюра работает в режиме двойного зонда. Такой режим установлен по умолчанию, он позволяет диагностировать параметры высокочастотной или нестационарной плазмы, практически не возмущая её, т.к. электроды полностью гальванически изолированы от разрядной камеры. В режиме одиночного зонда пилообразное напряжение подается на электрод, который введен в плазму, относительно опорного электрода, которым может быть металлическая стенка разрядной камеры. Преимущество Манипулятор позволяет осуществлять аксиальное и радиальное позиционирование датчика в пространстве рабочей камеры и определять распределение концентрации плазмы или оценивать ее однородность. Надежность, техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы.
ЭПОС-Инжиниринг
Новосибирск
Произведено в: Новосибирск
Универсальная вакуумная установка напыления тонких пленок - EPOS-PVD-E-MAG-550
Универсальная вакуумная установка напыления тонких пленок - EPOS-PVD-E-MAG-550
от 30 000 000 ₽
Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.
ЭПОС-Инжиниринг
Новосибирск
Произведено в: Новосибирск
НАСТОЛЬНАЯ УСТАНОВКА МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ EPOS-PVD-DESK-PRO
НАСТОЛЬНАЯ УСТАНОВКА МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ EPOS-PVD-DESK-PRO
от 7 000 000 ₽
Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.
ЭПОС-Инжиниринг
Новосибирск
Произведено в: Новосибирск
НАСТОЛЬНАЯ УСТАНОВКА МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ  EPOS-PVD-DESK-STD
НАСТОЛЬНАЯ УСТАНОВКА МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ EPOS-PVD-DESK-STD
от 5 600 000 ₽
Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.
ЭПОС-Инжиниринг
Новосибирск
Произведено в: Новосибирск
Лабораторная вакуумная установка напыления тонких пленок - EPOS-PVD-E-MAG-400
Лабораторная вакуумная установка напыления тонких пленок - EPOS-PVD-E-MAG-400
от 14 000 000 ₽
Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.
ЭПОС-Инжиниринг
Новосибирск
Произведено в: Новосибирск
НАСТОЛЬНАЯ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ВАКУУМНАЯ ПЕЧЬ EPOS-VACFURN-DESK-1300
НАСТОЛЬНАЯ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ВАКУУМНАЯ ПЕЧЬ EPOS-VACFURN-DESK-1300
от 1 870 000 ₽
Печь EPOS-VACFURN-DESK-1300 c вертикально расположенной вакуумной камерой, с поднимающимся с помощью ручного привода колпаком камеры. Источник питания и управления расположен в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение вакуума лучше 1,3·10-2 Па (в холодном состоянии). Печь оснащена рубашкой охлаждения, высокотемпературным нагревателем и предельно проста в эксплуатации. Опционально возможна установка регулятора расхода газов для проведения нагрева в атмосфере высокой чистоты различных инертных, восстановительных газов и их смесей. ОСОБЕННОСТИ • Конструкция и материалы нагревательных элементов и зоны нагрева позволяет нагревать изделия до 1250 °C кратковременно и 1200 °C длительно с термопарой типа К, и 1300 °C с термопарой типа N; • Прозрачное окно на колпаке камеры позволяет визуально контролировать процессы в рабочей зоне; • Полностью безмасляная откачка; • Конструкция кронштейна обеспечивает удобный подъем колпака и отвод его в сторону для удобства смены образцов, а также препятствует опрокидыванию камеры. • Предельные габаритные размеры обрабатываемых образцов 60х60х60; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме с помощью ПИД-регулятора; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Пошаговое ПИД-регулирование – 3 программы технолога по 5 шагов; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева, обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию. ПРЕИМУЩЕСТВА Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 1300°C. Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов при проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами, чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора. Возможность заказа печи с различной системой высоковакуумной откачки и без нее, а также дополнительная опция с установкой регулятора расхода газов, позволяют расширить возможности и сконфигурировать печь непосредственно для Ваших задач.
ЭПОС-Инжиниринг
Новосибирск
Произведено в: Новосибирск
Термический испаритель–лодочка
Термический испаритель–лодочка
Изготавливаются из тонких листов тугоплавких металлов (тантал, молибден, вольфрам и др.) и имеют специальные углубления, в которых размещается испаряемый материал. Нагрев осуществляется прямым протеканием тока. Применяются для испарения в вакууме материалов, плохо удерживающихся на проволочных испарителях. Особенности Испаритель крепится на электрических вводах специально-разработанными кронштейнами, позволяющими менять расположение и угол лодочки для получения необходимого распределения. Крепление испарителя позволяет быстро без специальных приспособлений заменить лодочку. Преимущество техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы испарителя и возможность получения покрытий различного химического состава. Комплектация • испаритель– лодочка; • пневматическая заслонка (опция); • регулируемые держатели для лодочки(опция); • изолированные токовводы; • система питания. Лодочки-испарители и компоненты: токовводы, система питания, пневматическая заслонка в различной конфигурации можно заказать отдельно!
ЭПОС-Инжиниринг
Новосибирск
Произведено в: Новосибирск
Профилометр uSTEP 300
Профилометр uSTEP 300
от 34 000 000 ₽
Профилометр позволяет проводить диагностику пластин различного диаметра вплоть до 300 мм включительно. Система позиционирования пьезосканера работает с точностью до 25 нм в латеральной плоскости образца. Преимущества и особенности uSTEP 300: - Возможность анализировать образцы с разным перепадом по высоте от моноатомных ступеней до развитого микрометрового рельефа - Новое поколение электроники с низким уровнем шумов обеспечивает исследование шероховатости с точностью до 2.7 А - Моторизованный позиционер большого размера позволяет исследовать образцы с диаметром до 300 мм - Точность позиционирования в латеральной плоскости 25 нм - Монолитная конструкция основания профилометра снижает влияние паразитных шумов в полосе частот выше 200 Гц на 30 дБ - Удобное и простое в использовании программное обеспечение, открывающее возможности к быстрым потоковым измерениям при межоперационном контроле - Низкая нагрузка на образец весом 0.03 – 10 мг, что позволяет деликатно работать с исследуемыми материалами без повреждения поверхности - Встроенная вспомогательная оптика включает в себя моторизированную систему управления фокусом, увеличением и перемещением в латеральной плоскости - Для сокращения влияния дрейфа и теплового шума система может быть дополнена термостабилизирующим шкафом
АКТИВНАЯ ФОТОНИКА
г. Москва, г. Зеленоград,
Произведено в: Москва, Зеленоград
Спектрометр LS Rambo 620
Спектрометр LS Rambo 620
от 26 000 000 ₽
Конструктивно анализатор представляет собой моноблок, в котором находятся: до 4 встроенных источников лазерного излучения, монохроматор, ПЗС-камера, моторизированная оптика для автоматизированного управления спектрометром, модуль калибровки. Возможна комплектование спектрометра оптическим микроскопом с набором объективов, подбираемым под нужды заказчика. Управление производится через персональный компьютер с предустановленным программным обеспечением Nova SPM. Дифракционные решетки до 4 шт. на турели на выбор: 150, 300, 600, 1200, 1800, 2400 штр./ мм Количество: до 5 (4 встроенных + один внешний) Мощность: до 100 мВт Диапазон длин волн: от 400 до 800 нм Поляризация: линейная Профиль пучка: Гауссовский TEM00, одна основная продольная мода (SLM) Размер щели на входе монохроматора: от 0 до 2000 мкм, шаг – 1 мкм Фильтры отсечения линии возбуждения: колесо на 8-позиций, для фильтров Ø 12.5 мм и Ø 25 мм Расширитель пучка оптимизирован для заполнения входного зрачка объектива Калибровочная лампа двухэлементная с полым катодом Детекторы: ПЗС камера, ФЭУ (опция), ЛФД (опция)
АКТИВНАЯ ФОТОНИКА
г. Москва, г. Зеленоград,
Произведено в: Москва, Зеленоград
Высокотемпературная камера  для рентгеновской дифракции ТК-1200
Высокотемпературная камера для рентгеновской дифракции ТК-1200
Характеристики температурной камеры ТК-1200 для дифракционных исследований: Материал корпуса - Нержавеющая сталь Материал рентгенпрозрачных окон - ПМА, графит Рентгенпрозрачность окон (Cu Kα) ~63,5% Материал кюветы - Оксид алюминия Глубина кюветы - 0.2, 0.5, 0.9 мм Вращение образца/Колебание - от 0° до 360° со скоростью от 0°/с до 180°/с Диапазон рабочих температур - от +25°С до + 1200°С Точность определения температуры ±2°С Точность поддержания температуры ±0,5°С Угол дифракции, 2θ - от -1° до 152° Возможность работы в вакууме, давление <10^(-6) бар (вакуумное оборудование поставляется отдельно). Конструкция ТК-1200 позволяет осуществлять контролируемое вращение образца вокруг собственной оси на 360° в плоскости образца, тем самым давая возможность изучить анизотропию внутренних напряжений. Вращение (колебание) самого образца внутри температурной камеры осуществляется за счет шагового двигателя. Опционально возможна установка как на θ-θ гониометр, так и на θ-2θ (горизонтально и вертикально). Для регистрации спектров возможно использование таких детекторов как сцинтиляционный, полупроводниковый, позиционно-чувствительный. Опционально возможно исполнение исполнение данного устройства для работы при различных температурах, механических и электрических воздействиях в разных средах. Возможно изготовление температурных камер в различных исполнениях: ТК-500 (температурный диапазон +25 – +500 °С), ТК-600 (температурный диапазон -160 – +600 °С), ТК-900 (температурный диапазон +25 – +900 °С) , ТК-1500 (температурный диапазон +25 – +1500 °С), а также с различными конструкциями держателя для Ваших образцов.
ИВАН ЭЛЕКТРОНИКС
Новочеркасск
Произведено в: Новочеркасск
Измеритель мощности лазера Radium U2
Измеритель мощности лазера Radium U2
от 399 000 ₽
Измеритель лазерной мощности с сенсором теплового типа для мощности от 200 мВт до 120 Вт. Автономный дизайн с пассивным охлаждением и возможностью проводного подключения к ПК и беспроводного вывода данных на Android смартфон. Ключевые особенности - Готовая измерительная система в едином корпусе, не требующая подключения консоли и внешнего питания. - Быстрый вывод данных в приложение на смартфон или ПК, полноценный контроль без специальных устройств. - Широкий диапазон измеряемой мощности, спектральный диапазон совместимый с большинством современных лазеров, размер апертуры, позволяющий производить измерения без подготовки пучка, в любом месте оптической системы. Программное обеспечение - Быстрое и простое подключение устройств без необходимости сопряжения – приложение автоматически выполняет поиск совместимых подключённых устройств; - Детальный вывод показаний и индикация состояния, запись результатов измерений, управление параметрами; - Открытые протоколы управления и данных, интеграция в рабочие процессы, поддержка и обновления. Комплект поставки: Измеритель, защитная крышка с разметкой, бленда, провод USB Type-C на USB Type-A, руководство пользователя, сертификат калибровки, протокол калибровки.
НАНОСЛЕД
Москва
Произведено в: Москва
Измеритель лазерной мощности Radium U3
Измеритель лазерной мощности Radium U3
от 399 000 ₽
Готовая измерительная система в едином корпусе не требующая подключения консоли и внешнего питания; Быстрый вывод данных в приложение на смартфон или ПК, полноценный контроль без специальных устройств; Широкий диапазон измеряемой мощности, спектральный диапазон совместимый с большинством современных лазеров, размер апертуры, позволяющий производить измерения без подготовки пучка, в любом месте оптической системы. Быстрое и простое подключение устройств без необходимости сопряжения – приложение автоматически выполняет поиск совместимых подключённых устройств; Детальный вывод показаний и индикация состояния, запись результатов измерений, управление параметрами; Открытые протоколы управления и данных, интеграция в рабочие процессы, поддержка и обновления. Комплект поставки: Измеритель, защитная крышка с разметкой, бленда, провод USB Type-C на USB Type-A, руководство пользователя, сертификат калибровки, протокол калибровки. Технические характеристики: Охлаждение Пассивное Вес 300 г Спектральный диапазон 0.5–2.5 мкм, 10.6 мкм Крепление Отверстие с резьбой М6х1.0 глубиной 12 мм Программное обеспечение Windows 10/11, Linux Android 10 и выше Аккумулятор Li-Pol, 500 мАч с защитой Диаметр апертуры Ø 12 мм Габаритные размеры 55 мм × 55 мм × 40 мм Защита от перегрева Встроенный датчик температуры Диапазон мощности 20 мВт – 2 Вт Предельная плотность мощности 0.75 кВт/см2 Постоянная времени 2.5 с Погрешность калибровки мощности ±3 % Интерфейс вывода данных USB Type-C 3.1 Bluetooth LE 5.0 Время автономной работы Не менее 6 часов
НАНОСЛЕД
Москва
Произведено в: Москва