Поиск

Использование водокольцевого вакуумного насоса 2ВВН1-6М(Н) для откачки водогазовых смесей допускается лишь при условии отделения и отвода основной массы воды у входа в насос. Невыполнение этого требования может привести к недопустимой перегрузке электродвигателя и разрушению рабочих органов насоса 2ВВН1-6М(Н). Насос вакуумный водокольцевой 2ВВН1-6М(Н) изготавливается в климатическом исполнении УХЛ 4 и О4 по ГОСТ 15150-69, соответствует требованиям технических условий ТУ 3648-015-00218526-2000, разработан и изготавливается с учётом требований ГОСТ Р 52615-2006. Требования к качеству электроэнергии по ГОСТ 32144-2013.

Рабочее состояние диффузионного насоса НД-800 зависит от температуры рабочей жидкости в кипятильнике насоса. При первоначальной заливке рекомендуется заливать максимальный объем рабочей жидкости. Рабочая жидкость - масло вакуумное «VACMA OIL 500» ТУ 19.20.29-061-00218526-2019. Oбщee количество рабочей жидкости в диффузионном насосе НД-800 максимум 15л, минимум 10л. Смотровое окно для визуального контроля рабочей жидкости имеет метки максимального и минимального его количества. При нормальном режиме эксплуатации насоса уровень рабочей жидкости практически не меняется. Температура рабочей жидкости при работе насоса на предельном остаточном давлении составляет около (240...255) 0С. Работу нагревателей в диффузионном насосе НД-800 рекомендуется контролировать с помощью двух датчиков температуры. Датчик температуры необходимо устанавливать в специальное гнездо радиатора над нагревателем. В том случае, когда происходит потеря рабочей жидкости и увеличение температуры радиаторов до 360 0С для диффузионного насоса НД-800, датчик температуры должен дать команду на автоматическое отключение нагревателей. Последующее включение нагревателей насоса не должно быть автоматическим и должно производиться только после охлаждения системы. Вода на входе в системы охлаждения корпуса и маслоотражателя должна подаваться давлением от 0,3 MПa (3 кгс/см2) до 0,5 MПa (5 кгс/см2) и температурой от плюс 4 °С до плюс 25 °С. Рекомендуемый расход охлаждающей воды на корпус 900 л/ч, на маслоотражатель 120 л/ч и регулируется по температуре воды на выходе, которая не должна превышать плюс 40 °С. Слив воды должен быть свободным (с разрывом струи).

Бустерный насос 2НВБМ-400(Р)/6000 представляет собой конструкцию, состоящую из корпусов, паропровода, ловушки и нагревателя. Требуемая эффективная быстрота действия форвакуумного насоса (насосов) при давлении 200 Па (1,5 мм рт.ст.) на выходе из бустерного насоса 2НВБМ-400(Р)/6000 не менее 45 л/с. Предельное остаточное давление насоса 2НВБМ-400(Р)/6000, замеряемое преобразователем манометрическим ионизационным ПМИ-2 с залитым в его ловушку азотом, не более 6,6∙10-4 Па (5∙10-6 мм рт.ст.). Давление охлаждающей воды на входе в насос 2НВБМ-400(Р)/6000 должно быть от 0,2 до 0,5 МПа (от 2 до 5 кгс/см2). Слив из насоса должен быть свободным с разрывом струи. Расход охлаждающей воды 600 л/ч. Общее количество рабочей жидкости для насоса 2НВБМ-400(Р)/6000 составляет 47л., уровень рабочей жидкости должен находиться между верхней и нижней рисками уровнемера. Замена или доливка рабочей жидкости зависит от режима работы насоса (входного давления, продолжительности откачки и т.п.) и состава откачиваемой среды, поэтому время через которое заменяется или доливается рабочая жидкость может быть 100 часов и более. Большой расход рабочей жидкости наблюдается при работе насоса в диапазоне входных давлений от 1,33 до 13,3 Па (от 1·10-2до 1·10-1мм рт.ст.). Режим работы насоса в диапазоне от 13,3 Па (0,1 мм рт.ст.) до предельного остаточного давления – циклически нерегулярный.

Предлагаем Вам услуги по проектированию и создание вакуумных камер любой сложности (комплексное решение контроля герметичности): объем камеры от 1 до 100литров; многозонные малоразмерные специализированные вакуумные камеры (кассетного типа); карусели; возможность комплектации запорной арматурой(клапана); применение различных фланцевых разъемов (по согласованию); возможность автоматизации тех.процесса; возможность подключения не стандартного дополнительного оборудования.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система напыления углерода с форвакуумным насосом C156RE нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить углерод на поверхность образца методом термического резистивного импульсного испарения с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Что входит в систему: ⬢ базовый блок с управляющей электроникой; ⬢ углеродный испаритель; ⬢ вакуумная система с форвакуумным насосом; ⬢ предметный столик Ø100 мм с вращением; ⬢ большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; ⬢ сенсорный экран управления 7″; ⬢ программное обеспечение на русском языке; ⬢ книга «рецептов» напыления; ⬢ стартовый набор расходных материалов. В зависимости от предполагаемой области применения, система напыления может быть дополнительно оснащена: ⬢ измерителем толщины покрытия на основе кварцевых весов; ⬢ держателем образцов под задачи; ⬢ вакуумной системой на базе турбомолекулярного насоса; ⬢ различной комплектацией расходных материалов (углеродные шнуры/стержни, кварцевые кристаллы, дополнительный набор уплотнителей, набор для чистки камеры); ⬢ предметным столиком с нагревом для увеличения адгезии покрытия; ⬢ сменной камерой Ø156х150 мм из боросиликатного стекла. Другие модели серии 156: Система напыления углерода с турбомолекулярным насосом C156TE; Система напыления металлов с форвакуумным насосом C156RS; Система напыления металлов с турбомолекулярным насосом C156TS; Установка плазменной активации поверхности GD156R.

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система напыления углерода с турбомолекулярным насосом C156TE нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить углерод на поверхность образца методом термического резистивного импульсного испарения с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Что входит в систему: ⬢ базовый блок с управляющей электроникой; ⬢ углеродный испаритель; ⬢ вакуумная система с турбомолекулярным насосом; ⬢ предметный столик Ø100 мм с вращением; ⬢ большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; ⬢ сенсорный экран управления 7″; ⬢ программное обеспечение на русском языке; ⬢ книга «рецептов» напыления; ⬢ стартовый набор расходных материалов. В зависимости от предполагаемой области применения, система напыления может быть дополнительно оснащена: ⬢ измерителем толщины покрытия на основе кварцевых весов; ⬢ держателем образцов под задачи; ⬢ вакуумной системой на базе форвакуумного насоса; ⬢ различной комплектацией расходных материалов (углеродные шнуры/стержни, кварцевые кристаллы, дополнительный набор уплотнителей, набор для чистки камеры); ⬢ предметным столиком с нагревом для увеличения адгезии покрытия; ⬢ сменной камерой Ø156х150 мм из боросиликатного стекла. Другие модели серии 156: Система напыления углерода с форвакуумным насосом C156RE; Система напыления металлов с форвакуумным насосом C156RS; Система напыления металлов с турбомолекулярным насосом C156TS; Установка плазменной активации поверхности GD156R.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.