دستگاه خودکار برای استفاده از پوشش های سخت کننده URM3. 279. 070

این دستگاه مجهز به یک اواپراتور برای استفاده از آلیاژهای مقاوم ، دو اواپراتور برای استفاده از لایه های فلزی و یک منبع تصفیه یون است.

این دستگاه مجهز به یک بخارگر مقاوم و دو بخارگر الکترونیکی با کاتد حلقوی ، یک منبع تصفیه یون است.

به دست آوردن پالس های ولتاژ بالا برای استفاده در فن آوری های تخلیه الکتریکی خرد کردن ، حفاری ، برش ، حذف لایه سطحی مواد و غیره.، از جمله موارد دیگر ، می توان از آن برای شارژ دستگاه های ذخیره سازی شتاب دهنده های پالس ذرات شارژ شده و همچنین آزمایش مواد عایق برای مقاومت در برابر ولتاژ پالس (از جمله پالس رعد و برق استاندارد) استفاده کرد. مشخصات فنی: انرژی پالس: تا 300 J; فرکانس: تا 25 پالس در ثانیه; ولتاژ خروجی: تا 350 کیلو ولت; حالت کار: دوره ای/مداوم

این دستگاه برای استفاده از پوشش های فوق سخت فلزات مختلف و ترکیبات آنها و همچنین فیلم های الماس مانند بر اساس کربن بی شکل طراحی شده است و می تواند برای بهبود عملکرد انواع ابزارهای مورد استفاده برای فلزکاری ، قطعات واحدهای اصطکاک ، محصولات میکرومکانیک و همچنین تشکیل یک پوشش بیوفانکشنال بر روی محصولات پزشکی استفاده شود.

نصب "Oratorio 29M" فراهم می کند: • پمپاژ خلاء بدون روغن بر اساس پمپ کریوجنیک; • بارگیری خودکار صفحات بر روی نوار نقاله از کاست و تخلیه صفحات به کاست ، شمارش صفحات بارگیری شده و تخلیه شده ، هشدار نور و صدا در مورد پایان بارگیری و تخلیه صفحات; * کنترل دستی سرعت نوار نقاله ، جریان بخاری صفحه; * عملکرد سه مگنترون در محدوده قدرت از 2 تا 6 کیلو وات.; * عملکرد ژنراتور پلاسمای rf RPG-250; • حذف "عامل انسانی" در طول فرآیند پوشش و به حداقل رساندن احتمال بروز نقص; • قابلیت تکرار ویژگی های پوشش از دانلود تا دانلود; * تنظیم ، در صورت لزوم ، پارامترهای حالت در طول فرآیند بدون متوقف کردن آن ("حالت دستی"); * توانایی ایجاد هر فرآیند فنی جدید به طور مستقل; * ثبت فرآیندهای فنی ، که به تکنسین اجازه می دهد تا علل نقص در تولید پوشش ها را کنترل و به سرعت شناسایی کند; * نظارت مستمر بر تجهيزات و مديريت عمليات آن در مواقع اضطراري; * تشخیص و ثبت پارامترهای عملکرد سیستم های اصلی تجهیزات ، که به شما امکان می دهد به سرعت مشکلات و خرابی های نوظهور را پیدا کنید.

دستگاه 5m Oratorio فراهم می کند: • پمپاژ بدون روغن (خشک) بر اساس پمپ های پیش از خلاء و کریوجنیک یا توربو مولکولی; * کنترل دستی سرعت نوار نقاله ، جریان بخاری صفحه; * عملکرد دو مگنترون در محدوده قدرت از 2 تا 6 کیلو وات.; * عملکرد ژنراتور پلاسمای rf RPG-250; • حذف "عامل انسانی" در طول فرآیند پوشش و به حداقل رساندن احتمال بروز نقص; • قابلیت تکرار ویژگی های پوشش از دانلود تا دانلود; * تنظیم ، در صورت لزوم ، پارامترهای حالت در طول فرآیند بدون متوقف کردن آن ("حالت دستی"); * توانایی ایجاد هر فرآیند فنی جدید به طور مستقل; * ثبت فرآیندهای فنی ، که به تکنسین اجازه می دهد تا علل نقص در تولید پوشش ها را کنترل و به سرعت شناسایی کند; * نظارت مستمر بر تجهيزات و مديريت عمليات آن در مواقع اضطراري; * تشخیص و ثبت پارامترهای عملکرد سیستم های اصلی تجهیزات ، که به شما امکان می دهد به سرعت مشکلات و خرابی های نوظهور را پیدا کنید.

این نصب برای رسوب فیلم های نازک چند لایه فلزات ، آلیاژها و دی الکتریک ها با تبخیر حرارتی مواد با تبخیر کننده های پرتو الکترون بر روی سوبسترات های سیلیکونی با قطر تا 100 میلی متر طراحی شده است.

بهره وری بالا از نصب امکان استفاده از آن را برای تولید انبوه محصولات میکروالکترونیک فراهم می کند. این نصب مجهز به دو مگنترون و یک منبع تصفیه یون است.

این دستگاه برای استفاده از سخت شدن مقاوم در برابر سایش و پوشش های مقاوم در برابر خوردگی بر روی قطعات فلزی با روش یون پلاسما طراحی شده است. این نصب برای بهبود عملکرد انواع مختلف ابزار مورد استفاده برای فلزکاری استفاده می شود.

به دست آوردن پالس های جریان برای استفاده در فن آوری های تخلیه الکتریکی تخریب مواد و جداسازی از یک سنگ ، شمع های حفاری ، تخلیه چاه و غیره. انرژی پالس: تا 126 kJ; فرکانس: حداکثر 1 پالس در دقیقه; ولتاژ خروجی: تا 15 کیلو ولت; حالت عملیاتی: دوره ای.

این دستگاه مجهز به یک سیستم تامین آب در گردش مستقل و همچنین یک مودم است که امکان کنترل از راه دور فرآیند تکنولوژیکی ، پیکربندی آنلاین و انتقال داده های خطا به سرویس پشتیبانی را فراهم می کند.

این مجموعه دارای چهار اتاق کار است که توسط یک سیستم دروازه و ارتباطات حمل و نقل به یک خط پاشش خلاء متصل شده اند.

این برای اندازه گیری زاویه برش کریستال های منفرد ، به ویژه یاقوت کبود با هر یک از جهت گیری ها ، C(0001) ، A(11-20) ، R(01-12) یا M(01-10) در محدوده سوء جهت ± 5.0 درجه با خطای 15 ثانیه زاویه ای طراحی شده است.