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专为在真空设备和具有临界温度负荷的气候室中运行而设计。旋转输入设计为冷却磁流体密封。MZHU 的外壳由双层壁制成，允许冷却剂（水）在产品中循环，从而保持密封内部允许的温度平衡。 磁流体冷却旋转输入的特点： -反应腔内的持续压力不低于 10-6 Pa。 -氦气流量不超过 10-12 m3Pa/s。 -输入操作温度模式：-70 +150 0C。 -轴旋转频率，最高 2000 rpm。

该产品用于在反应器内温度较高的真空装置中传输技术单元的旋转，同时保持活动接头的密封性。该产品是由磁流体密封和冷却装置组成的复合圆柱形结构。 输入轴和磁极环之间的间隙由磁场保持的磁性流体提供连接的真空密封性。冷却装置为水冷式。水密性由两个唇形密封件（35×55×10 HMS5 RG）提供。该产品的设计允许对冷却装置进行维护，并在唇形密封圈磨损时进行更换。通过两个 G1/4" 接头将水连接到旋转进水口 AP 09.100.00。 旋转输入轴真空侧的法兰采用 CF16 标准。轴上有一个中心孔，用于拉动轴上的电缆，为位于腔室（反应釜）内部空间的负载供电。 产品重量为 4.1 千克 产品尺寸 Ø100*284 毫米 从大气一侧看，产品轴的直径为 25 毫米 真空部分的产品轴直径 34 mm 真空部分轴法兰标准 CF16 轴转速：最高 180 rpm。 产品保持的极限真空：最高 10-5 Pa 氦气流量：最大 10-11 m3Pa/s

根据客户的技术要求制造，用作模拟太空真空条件的技术试验台的一部分。旋转输入口有两个磁流体密封回路，采用空心轴，可以在真空条件下直接向固定在轴上的测试样品提供工艺气体。在设计旋转输入口的磁流体密封件时，考虑到了高轴旋转频率的要求。旋转输入端与真空室的固定方式采用法兰连接。工艺气体通过插入主体上的螺纹接头供应。 旋转输入 AP 34.000.00 的特点 - 工作旋转频率 6000 rpm； - 最大转速（短时，最多 5 秒）16000 rpm； - 工作温度为 +15°C 至 +30°C； - 氦气流量不超过 10-11 m3Pa/s。

设计用于电子和化学工业的加工设备。设计用于向真空反应器（腔室）和超压不超过 1.1 atm 的反应器内部传递旋转，并使用非腐蚀性气体。轴旋转频率 - 高达 1500 rpm，氦气流量不超过 10-12 m3Pa/s，反应器内残余压力不低于 10-5 Pa（超压 - 高达 1.1*105 Pa），工作温度高达 80 0C，主体和轴均由不锈钢制成，驱动/负载固定在旋转输入轴上的方法 - 键控。带磁流体密封 TVRM.305319.005 的旋转输入端使用寿命为 10 年。'

专为特殊工艺设备（真空设备）的反应器而设计，用于将旋转传送到反应器核心，同时保持活动接头的高度密封。 旋转输入通过快速接头进行（在容器 KF40 的一侧，在轴 KF25 的一侧）。轴是空心的，内径为 25 毫米，用于从高真空反应釜输出电气连接。 真空旋转输入的技术特点 - 工作温度高达 800 摄氏度 - 残压为 1*10-8 Pa； - 过压最高 0.1 MPa； - 轴转速不超过 60 rpm。 根据客户的技术要求，可提供各种不同的旋转输入设计。

设计用于将旋转从电机传送到真空溅射系统的行星转盘。由于在溅射过程中，带有基片支架的转盘会被加热到很高的温度，因此旋转输入外壳是水冷的，介质分离的方法是磁流体密封。 带有磁流体密封的冷却旋转输入装置的特点： - 旋转频率 5 rpm； - 磁流体密封区域的温度为 120 0C； - 轴上的径向载荷高达 1000N； - 通过磁流体密封的氦气流量不超过 10-12 m3Pa/s； - 真空室中的残余压力不低于 10-5 Pa。 - 真空室中的工艺气体：氮气、氩气、氧气、氢气。

真空旋转输入是根据客户的技术要求设计的，用于热真空蒸发薄膜溅射设备。 应用目的是旋转真空室中坩埚（舟）的挡板。 真空旋转输入的外壳是为快速接头 KF50 设计的。输入轴上有槽，用于用固定螺钉固定挡板和手柄 KIPP K0150.340082。 真空旋转输入端的技术特点 - 工作温度最高可达 800 C； - 腔室压力不低于 1*10-6 Pa； - 轴转速不超过 40 rpm。