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该支架允许在FSM光谱仪中使用Specord型比色皿，并具有适当的连接尺寸。

PRIZ前缀的主要优点是在镜面抛光金属板上赋予微物体薄层形状后，可以获得明确定义的微物体光谱（在所谓的双通道模式下，当辐射两次穿透物质层时，从镜面基板反射）。 具有内置视频摄像机的视觉控制系统的存在显着增加了设置时的信息内容以及获得的结果的可靠性。 在前缀的帮助下，还可以以原生形式注册散装样品和任意几何形状的固体物体的反射光谱，包括片剂，粉末和颗粒形式的药物，聚合物碎片，LCP，沉积在表面 技术规格 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为40 配准光谱时推荐的扫描次数为25 25次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec30 固体样品的最小初始尺寸，mm0.2×0.2 固体样品的最大面积，mm20X20X10 可变对焦范围，mm10 焦点的直径，mm3 Zdo45o模式下辐射（中心光束）在样品上的入射角 4x视觉通道的微镜头放大/总放大 光学系统的视场，mm2X2.5 数字摄像机的分辨率为640x480 外形尺寸,mm140×105×160 重量,kg1.16

与光学装置一起，FEP-10前缀用于基于根据标准样品构造的校准特性的各种材料的定性和定量分析。 技术规格: 光电探测器的类型是具有高动态范围的线性CMOS接收器。 数的光电探测器3...12 感光元件（像素）的尺寸，7x200 微米。 一个CCD标尺上的像素数为4096 一个CCD标尺记录的光谱长度 29mm. 记录光谱的总长度，高达340 mm.

它旨在对各种类型的固体不透明样品进行快速分析，包括聚合物薄膜和碎片，油漆涂层，片剂形式的成品剂型，光学部件和半导体材料。 •样品位于被调查表面的被调查平面上向下，中心光束在样品上的入射角为45° *焦点的直径为3毫米 *允许您探索任何形状和大小的对象 •使用微型压力机时，它允许您在合金钢制成的镜板上以薄层的形式检查样品（辐射穿过物质层两次，从镜面反射） *不使用：用于研究散装和液体物质

它用于研究用KBr压缩成小直径片剂的样品（该方法便于粉状物质的光谱分析-前缀允许您使用手动压力机使用少量样品来制造片剂）。 *聚焦光斑直径小于3毫米 *设计中使用抛物面镜光学 *窗口-基板可以放置在前缀后，糊状，液体物质或提取物施加到他们，然后干燥的层 *使用有限–用于研究尺寸小于5毫米的整个样品（最好使用垂直型微聚焦附件）

为了在FSM光谱仪中安装CFK类型的石英比色皿，使用DC CFK支架，其具有标准的50x75mm连接杆，用该连接杆将其插入红外傅里叶光谱仪FSM的PK50-75比色皿的

设计用于研究各种类型的固体样品，包括光学和半导体材料、宝石和其他任意形状的物体 •样品位于被调查表面的被调查平面上向下，中心光束在样品上的入射角为15° *允许您检查小尺寸的样品（测试区域的直径为1mm） •机顶盒配有一组可更换的膜片支架，用于不同尺寸的样品 •当使用微型压力机时，它允许您检查在由合金钢制成的镜板上滚出的薄层形式的样品（辐射穿过物质层两次，从镜面反射） *不使用：用于研究散装和液体物质

Prefix旨在与IR傅里叶光谱仪FSM一起测量光谱中近红外区域的散射表面和分散样品的漫反射光谱。

它用于快速分析各种类型的固体和液体样品，包括聚合物颗粒、薄膜和纤维、粉状物质、油漆涂层碎片、燃料和润滑剂。 用于对所研究表面进行视觉检查的光学系统的存在增加了75x，确保了在处理小样品时的高效率-薄纤维的碎片，微粒等。 通用夹具配有一个精密杠杆机构，用于快速降低尖端和一个千分尺螺钉，允许您预先设置最佳的压力程度–这确保快速更换样品和测量结果的重复性。 为了方便处理液体和糊状样品，以及在ZDO模式下，可以将夹紧控制台旋转180o。该控制台配有两个可互换的尖端-一个球形工作部件和一个平铰头。 替换表用于登记镜面和漫反射光谱。 样品位于被调查表面的被调查平面上向下，中心光束在样品上的入射角为45°。 该方法用于测定表面光学零件、晶体、薄膜的光谱特性，以及对大型固体物体的吸收光谱进行配准。 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为30 配准光谱时推荐的扫描次数为25 25次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec30 辐射穿透样品的深度，微米5–15 固体样品的最小面积，mm0.2×0.2 所研究液体的最小体积，ml1 纤维样品的最小尺寸：截面直径/长度，mm0.1/1 衬底晶体材料ZnSe CVD,Ge 聚焦光斑直径，mm1 Zdo模式下辐射（中心光束）在样品上的入射角45o 微透镜的放大倍数/视觉通道的总放大倍数4X/75X 光学系统的视场，mm2X2.5 数码摄像机分辨率640x480 外形尺寸,mm150×150×260 重量,kg2.15 *允许您研究小尺寸的物体（从200微米-取决于材料的几何形状，表面质量和物理化学性质） *附件允许您在没有样品准备的情况下工作，使用配备颜色指示器的夹具固定调整样品上的压力 •由于带有NPVO元件的可拆卸法兰，提供了快速方便的样品更换和晶体表面清洁 •在给定的最佳接触力下，由于物质层的厚度不影响光谱的形状和吸收带的强度，该方法提供了高质量和可重复性的结果 *样品保留其原始物理和化学性质，如有必要，可以通过其他方法进一步研究

控制台设计用于在透射或反射模式下控制直径达200mm的半导体晶片的参数。 板材的参数通过高度敏感的非接触式方法在操作员指定的点进行控制。

它允许记录尺寸为500微米的物体（宝石，光学部件，半导体材料）的透射光谱。 它也用于研究用KBr压缩成小直径片剂的样品（该方法便于粉状物质的光谱分析-前缀允许您使用手动压力机使用少量样品来制造片剂）。 *聚焦光斑直径小于3毫米 *设计采用抛物面镜光学 •机顶盒配有一组可更换的膜片支架，用于不同尺寸的样品 *窗户-由红外透明材料制成的衬底可以在粘贴、液体物质或提取物后放入支架中，然后干燥各层 *滑台具有垂直和水平方向平滑移动的可能性，以达到最大信号电平

设计用于研究液体介质、精细非研磨性粉末和聚合物薄膜的化学成分。 多次扰动全内反射的方法使得可以显着简化样品的制备，并可用于实施产品质量控制的快速方法。