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等离子体炬设计用于粉末样品的直接原子发射光谱分析。 原子的激发发生在直流氩弧等离子体中。 弱基质影响和低检出限使得可以使用这种激发源分析各种样品，包括矿物基质和有机基质。

真空光谱仪设计用于在工厂和研究实验室中快速分析基于铁，铜，铝和其他金属的合金，包括在真空紫外（VUV）领域测定具有分析线的元素（例如，钢中的S，P和 C)

该发生器旨在用于原子发射光谱分析装置中发生电弧和火花放电。该发生器专门设计用于分析复杂样品的光谱分析，在广泛的浓度范围内同时确定杂质和合金组分

真空光谱仪设计用于在工厂和研究实验室中快速分析基于铁，铜，铝和其他金属的合金，包括在真空紫外（VUV）领域测定具有分析线的元素（例如，钢中的S，P和 C)

该光谱仪是根据Cherni-Turner方案创建的，该方案基于平面衍射光栅和带有一行光电探测器的MAES分析仪。 由于光检测器范围的冷却和温度稳定，以及由于其无壳设计，其中没有复盖玻璃上的辐射的再反射并且记录光谱中的背景水平降低，它具有增加的光度 对光谱仪的光学方案和设计进行了优化，以在190-1100nm光谱范围内的任何区域中获得具有低背景辐射水平的高质量光谱。 工作区域的选择是通过改变和旋转衍射光栅来进行的。 光谱仪的密封壳体中充有惰性气体。 使用石英电容器或带有SMA-905连接器的光纤电缆将辐射注入光谱仪。 光谱仪的光学方案和设计受专利保护。

用于记录时间分辨率为1ms的原子发射光谱的MAES分析仪基于高灵敏度光电二极管和用于同时读取光谱的多个部分的特殊开关板。 标尺的组装安装在"Grand"光谱仪上。 为了激发粉末样品的原子发射光谱，使用"流"装置或双射流电弧等离子体激元。 ATOM软件注册选定的谱线，并根据指定的算法提供它们的处理，同时考虑到闪光的数量和亮度（即颗粒大小）。 以大的时间分辨率记录粉末样品的光谱，可以估计单个颗粒的数量和大小，识别它们的组成并确定每个颗粒中元素的浓度，迅速评估要确定的某些元素分布的均匀性，并在样品制备过程中不发生重大变化的情况下扩大光谱分析的可能性。 主要应用领域: 通过闪烁对粉末地质样品进行质量分析，以确定金，银，铂族金属，铱，铑等。 检出限高达0.01g/t; 内含物和矿物颗粒组成的定性测定。

激光源设计用于在对硬岩石-金属，矿物，玻璃等进行高质量光谱分析时激发原子发射光谱。 源基于双脉冲YAG：Nd激光器，具有电光Q因子调制，工作在1064nm的主波长。 每个脉冲的持续时间不超过10ns，它们之间的延迟从0到60微秒可调。 激光束聚焦在300至1000微米的区域的能力使得能够对夹杂物进行微量分析，执行表面的二维扫描或局部分析样品，而表面几乎没有损坏。 激光源的一个显着优点是对于广泛的导电和非导电材料的表现力和缺乏特殊的样品制备。 使用集成到系统中的立体显微镜以及具有图像传输到计算机的高分辨率数字视频摄像机进行光束在样品处的视觉观察和指向。 用固定样品移动仪器台既可以手动进行调整，也可以在分析过程中借助步进电机在两个坐标中进行调整，从而提供表面扫描和参考视频图像记录光谱。 安装可以与任何光谱设备一起使用–"Grand"，"Aspect"，"Express"，"Kolibri-2"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。 激光源设计用于在对硬岩石-金属，矿物，玻璃等进行高质量光谱分析时激发原子发射光谱。 源基于双脉冲YAG：Nd激光器，具有电光Q因子调制，工作在1064nm的主波长。 每个脉冲的持续时间不超过10ns，它们之间的延迟从0到60微秒可调。 激光束聚焦在300至1000微米的区域的能力使得能够对夹杂物进行微量分析，执行表面的二维扫描或局部分析样品，而表面几乎没有损坏。 激光源的一个显着优点是对于广泛的导电和非导电材料的表现力和缺乏特殊的样品制备。 使用集成到系统中的立体显微镜以及具有图像传输到计算机的高分辨率数字视频摄像机进行光束在样品处的视觉观察和指向。 用固定样品移动仪器台既可以手动进行调整，也可以在分析过程中借助步进电机在两个坐标中进行调整，以参考视频图像提供表面扫描和光谱记录。 安装可以与任何光谱设备一起使用–"Grand"，"Aspect"，"Express"，"Kolibri-2"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。

该装置旨在通过撒粉-吹气法法激发电弧中粉末样品的原子发射光谱。 它提供了高性能的常规分析，具有低消耗的石墨电极，并与任何光谱设备一起使用–"Grand"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。

“Aspect” 金属样品蒸发器的工作过程包括：: 控制原子发射光谱分析综合体的所有设备-MAES分析仪，球闪电发生器，包括外部设备; 在钨反电极和测试样品-贵金属锭或其他金属样品的表面之间激发火花单极放电; 通过改变由计算机控制的半导体火花发生器产生的火花脉冲的重复频率和功率来调节样品表面的侵蚀强度; 通过光纤使用内置光谱仪监测搜寻的稳定性和质量; 高纯度氩气的可调流量通过密封放电室中的火花放电区，拾取表面火花侵蚀获得的样品颗粒，并将其以气溶胶的形式转移到光发射光谱仪的电感耦合等离子体炬的混合器/喷雾器的区域。; 高纯度氩气的流量由微处理器控制的质量流量控制器提供、控制和调节，范围从0.5到3升/分钟。 进料稳定性0.01l/min。

MAES分析仪是测量谱线强度，然后计算要确定的元素浓度的现代工具。

光谱仪设计用于对工厂和研究实验室中的各种物质和材料（粉末，金属，溶液）进行定量和定性分析。 由于Paschen-Runge光学系统的垂直布置，光谱仪结构紧凑。 它由两台MAES分析仪组成，10行光电二极管安装在半径为520mm的圆上，一个非经典凹面衍射光栅，一个内置计算机的特殊工作台和一个光谱激发源。