遥控雾化器

Vectus单轴滑台的设计是为了沿单轴移动和定位各种设备 特别是沿光轴移动透镜，来改变样品表面或样品体积内物体的焦点位置。 此外，这种移位是三维共聚焦显微镜的基本要素。 结合在XY平面中操作的双轴运动，这种系统能够获得各种物体的完整的三维共焦图像。

该装置旨在通过撒粉-吹气法法激发电弧中粉末样品的原子发射光谱。 它提供了高性能的常规分析，具有低消耗的石墨电极，并与任何光谱设备一起使用–"Grand"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。

EG5000是最新EG电子控制器。 设计用于控制所有型号的扫描探针显微镜和纳米定位设备。其主要的显著特点是： 使用功能强大的FPGA Cyclone V，使数据处理和控制信号输出更快。。 内置的PC与Linux操作系统，安装你统一系统的软件，避免安装和更新软件时的困难。

内置于三脚架中的电极座的视频摄像机和伺服系统设计为通过计算机实时分析电弧放电的图像，自动保持样品蒸发过程中的电极间间隙，以及此间隙相对于光轴的初始设置。 使用闭式循环冷却装置用水冷却电极座。

EG-1100控制器设计用于控制压电定位器的运行，如Ratis扫描平台和Vectis单轴运动，或其他压电设备。 一般特征: CPU, 32比特；RISC PC接口， USB2.0 其他接口，RS232，RS485， SYNC I/O 高电压输出 电压，-10..150伏 噪音，<5ppm 电路数量，3个 DAC（数模转换器）比特率，18比特

扫描器是金属仪器（由优质合金制成，通常是铝），其中用于压电陶瓷致动器的通道、平台的移动元件等是通过电蚀和其他精密加工方法形成的。 这种设计提供了极好的线性和运动的平面性，不同于传统的基于压电的扫描仪，这个扫扫描面是一个球体。 此外，与脆性压电管相比，平面平行扫描仪具有较高的机械强度。

该发生器旨在用于原子发射光谱分析装置中发生电弧和火花放电。该发生器专门设计用于分析复杂样品的光谱分析，在广泛的浓度范围内同时确定杂质和合金组分

MAES分析仪是测量谱线强度，然后计算要确定的元素浓度的现代工具。

制备用于光谱分析的金属样品的装置。 为了制备金属样品，使用具有给定尺寸和研磨材料的金刚砂布或纸。 转速为每分钟1500转。 电机的快速停止由自动控制单元提供。 在由复合材料制成的外壳中有一个版本，带有两个圆盘，每个圆盘都可以有自己类型的磨料。

激光源设计用于在对硬岩石-金属，矿物，玻璃等进行高质量光谱分析时激发原子发射光谱。 源基于双脉冲YAG：Nd激光器，具有电光Q因子调制，工作在1064nm的主波长。 每个脉冲的持续时间不超过10ns，它们之间的延迟从0到60微秒可调。 激光束聚焦在300至1000微米的区域的能力使得能够对夹杂物进行微量分析，执行表面的二维扫描或局部分析样品，而表面几乎没有损坏。 激光源的一个显着优点是对于广泛的导电和非导电材料的表现力和缺乏特殊的样品制备。 使用集成到系统中的立体显微镜以及具有图像传输到计算机的高分辨率数字视频摄像机进行光束在样品处的视觉观察和指向。 用固定样品移动仪器台既可以手动进行调整，也可以在分析过程中借助步进电机在两个坐标中进行调整，从而提供表面扫描和参考视频图像记录光谱。 安装可以与任何光谱设备一起使用–"Grand"，"Aspect"，"Express"，"Kolibri-2"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。 激光源设计用于在对硬岩石-金属，矿物，玻璃等进行高质量光谱分析时激发原子发射光谱。 源基于双脉冲YAG：Nd激光器，具有电光Q因子调制，工作在1064nm的主波长。 每个脉冲的持续时间不超过10ns，它们之间的延迟从0到60微秒可调。 激光束聚焦在300至1000微米的区域的能力使得能够对夹杂物进行微量分析，执行表面的二维扫描或局部分析样品，而表面几乎没有损坏。 激光源的一个显着优点是对于广泛的导电和非导电材料的表现力和缺乏特殊的样品制备。 使用集成到系统中的立体显微镜以及具有图像传输到计算机的高分辨率数字视频摄像机进行光束在样品处的视觉观察和指向。 用固定样品移动仪器台既可以手动进行调整，也可以在分析过程中借助步进电机在两个坐标中进行调整，以参考视频图像提供表面扫描和光谱记录。 安装可以与任何光谱设备一起使用–"Grand"，"Aspect"，"Express"，"Kolibri-2"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。

与光学装置一起，FEP-10前缀用于基于根据标准样品构造的校准特性的各种材料的定性和定量分析。 技术规格: 光电探测器的类型是具有高动态范围的线性CMOS接收器。 数的光电探测器3...12 感光元件（像素）的尺寸，7x200 微米。 一个CCD标尺上的像素数为4096 一个CCD标尺记录的光谱长度 29mm. 记录光谱的总长度，高达340 mm.

等离子体炬设计用于粉末样品的直接原子发射光谱分析。 原子的激发发生在直流氩弧等离子体中。 弱基质影响和低检出限使得可以使用这种激发源分析各种样品，包括矿物基质和有机基质。