离心机

该磁性系统专为抽真空设备的无损检测系统而设计，该系统不仅需要在工作孔的中心，而且还需要在大的环形区域内创建均匀的磁场。 该系统是在钕铁硼永磁体的基础上组装而成的. 系统特性: -场方向：轴向 -所需环形区域的场均匀性：高达±2% -磁感应（用于各种修改）：从0.1到0.4Tl。 -孔径：最大120毫米或以上

容积L:74 工作温度范围，-70/+100°C 温度梯度，°C，不超过±3.0 相机平均温度偏离设定值，°C，不超过±2.0 温度达到最低温度的时间分钟，不超过80 温度达到最高温度的时间分钟，不超过60 最大温度振幅，°C，不超过±0.5 工作室内安装的相对湿度范围，%不小于20…98 摄影机中达到的相对湿度与控制器上设定的相对湿度的偏差不超过±3% 程序中的最大步骤数：15 最大程序开发周期数：999 电缆输入直径，mm:100 工作室尺寸，mm，不小于：宽度×深度×高度：440x400x420 尺寸，mm，不超过：宽度x深度x高度：1080x880x1528 制冷剂：R23、R404A 所需功率，kW，不超过3.0 电源电压/频率，V/Hz 220±10%/50 重量，kg，不大于：260 表演：地板 控制系统：微处理器 计算机通信：RS485接口 平均寿命，年，不少于10 材质：不锈钢

温度:-75/+180C，容积:270升

温度:-40/+165C，容积:74升

温度:-75/+180C，容积:1000升

容积, L: 74 工作温度范围，°C-75/+180 温度与给定温度的偏差： •范围：从零下75°C到+100°C，不超过，±2.0°C •范围：从+100°C到+180°C，不超过，±3.0°C 温度到达时间从电流介质温度到零下75°C，min，不超过90°C 温度达到+180°C至电流介质温度的时间，分钟，不超过60 温度之旅的最大振幅，°C，不超过±0.5 相机显示读数与给定值的最大偏差±0.5 循环中的最大步骤数10 最大程序开发周期255 电缆输入直径，mm 100 工作室尺寸，mm，不小于：宽度×深度×高度440x400x420 尺寸，mm，不大于：宽度x深度x高度1040x737x1528 制冷剂R23、R404A 所需功率，kW，不超过2.8 电源电压/频率，V/Hz 220±10%/50 重量，kg，不大于：220 地板执行 控制系统：微处理器 计算机通信：RS485接口 平均寿命，年，不少于10 材质：不锈钢

温度:-75/+180C，容积:74升

温度:-85/+180C，容积:74升

温度:-75/+180C，容积:200升

温度:-65/+150C，容积:74升

容积, L: 74 工作温度范围，°C-65/+165 温度与给定温度的偏差： •范围：从零下65°C到+100°C，不超过，±2.0°C •范围：从+100°C到+165°C，不超过，±3.0°C 温度到达时间从电流介质温度到零下65°C，min，不超过90°C 温度达到+165°C至电流介质温度的时间，分钟，不超过60 温度之旅的最大振幅，°C，不超过±0.5 相机显示读数与给定值的最大偏差±0.5 循环中的最大步骤数10 最大程序开发周期255 电缆输入直径，mm 100 工作室尺寸，mm，不小于：宽度×深度×高度 440x400x420 尺寸，mm，不大于：宽x深x高 845x685x1385 制冷剂：R23、R404A 在最高和最低温度（环境温度不超过+30°C）下连续工作的最大时间，小时72 所需功率，kW，不超过2.8 电源电压/频率，V/Hz 220±10%/50 重量，kg，不大于：170 表演：地板 控制系统：微处理器 计算机通信：RS485接口 平均寿命，年，不少于10

温度:-75/+150C，容积:600升

容积, L: 200 工作温度范围，°C-75/+180 温度梯度： •范围：从零下75°C到+100°C，不超过，°C 4.0 •范围：从+100°C到+180°C，不超过，°C 7.0 温度到达时间从电流介质温度到零下75°C，min，不超过90°C 温度达到+180°C至电流介质温度的时间，分钟，不超过40 平均温度偏离设定值±2.0 最大温度振幅，°C，不超过1.0 相机显示读数与给定值的最大偏差±0.5 循环中的最大步骤数10 最大程序开发周期255 电缆输入直径，mm 100 工作室尺寸，mm，不小于：宽度×深度×高度650x400x800 尺寸，mm，不大于：宽度x深度x高度1150x870x1965 制冷剂R404A、R508B 所需功率，kW，不超过8.2 电源电压/频率，V/Hz 380±10%/50 重量，kg，不大于：345 表演：地板 控制系统：微处理器 计算机通信：RS485接口 平均寿命，年，不少于10 材质：不锈钢

这种类型的磁性系统的设计也是基于Halbach偶极子结构的原理，但是由于磁性元件的特殊装置及其运动机制，存在光学访问所研究的样品的可能性，并且在几个方向上具有相当大的光圈。 原始设计提供了独特的参数组合: 用于安装样品的轴：Ø42mm 现场调节范围：-0.7至0.7Tl 工作区域场的均匀性：~1 % 在现场调整期间工作区的几何形状不变：是 在磁场方向和磁场方向上进行光学观察的可能性：是的 可以为源提供连接到PC的内置现场测量系统。 现场调整由PC控制，或使用内置控制器控制。 可以根据客户的技术规格（工作区域尺寸，现场尺寸）制造这种类型的现场源。

偶极Halbach结构的原理用于这些磁场发生器。 在圆柱形状的工作体积中产生横向方向的高强度磁场。 该设备的原始设计允许使用步进电机作为驱动器，将场的大小从–Vmah更改为+Vmah;与此同时，场矢量的方向被保留，以及其在±0.5％内的均匀性。 磁场源可以连接到计算机或其他控制设备，这允许您设置不同的变化模式。 值得注意的是，借助永磁体上的可调谐场源，可以实现非常高的磁场变化率–高达10Tl/s。 在不需要高均匀性磁场和高变化率的情况下，我们可以为简单的设备提供各种选择，特别是图中所示的系统，磁极对称线性运动。

这种类型的磁性系统被设计用作NMR设备的一部分，但也可以用于需要在大量工作体积中创建均匀场的其它任务。 主磁系统采用偶极Halbach结构原理，辅以校正磁系统，使工作容积内磁场均匀度达到10-4级成为可能。 磁系统的实施例: 外形尺寸：Ø190×400mm/Ø300×500mm 重量:~20公斤/~150公斤 工作区域尺寸：Ø50×100mm/Ø100×100mm 工作区感应：0.05Tl/0.16Tl