振动早期 IV 1

盘式研磨机设计用于将散装材料样品研磨至精细分散的状态。在盘式研磨机中，研磨是由于固定盘和活动盘之间材料颗粒的同时压缩变形和剪切而发生的磨损。破碎产品的尺寸由盘（槽）之间的间隙大小和材料的物理性质来调节。

筛分分析仪旨在确定样品制备过程中的粒度分布。产生一定幅度的高频冲击的元件是振动驱动；执行机构 - 一组带有托盘和盖子的筛子，根据确定颗粒尺寸等级的要求而形成。

NT-MDT光谱仪器是为红外光谱范围设计的INTEGRA纳米红外散射扫描近场光学显微镜（r–扫描进场显光学显微镜）。 原子力显微镜探针位于光学系统的焦点中，该光学系统将IR激光辐射引导到样品并收集光学响应。 收集到的辐射被送到迈克尔逊干涉仪进行光学分析。 通过同步检测抑制采集信号的远场分量。 INTEGRA Nano IR系统允许检测近场信号的幅度和相位。 产生的反射和吸收对比的空间分辨率约为10nm，仅由探针尖端的大小决定。

"Epishur-A SL"是一系列自主装置，用于不但氩气，而且所有惰性气体，氢气，氧气，氮气，热解气体的精细净化。 由于自己的发展，该公司已经实现了显着改善安装特性的机会（有时候，掺合物总和共计ppb单位）。 参数 Epishur-A100SL Epishur-A12SL Epishur-A04SL Epishur-A32SL Epishur-A21（212;204;232）SL 容量，最大l/min 10 30 100 500 30-500 进口气体污染的估计水平，ppm ≤ 50 70-150 100-300 300-1000 70-1000 出口处的气体污染水平（设备的基本版本），ppm < 0,5 水分体积分数<0.5 出口处的气体污染水平（使用精整过滤器），ppt <100对于H2O，O2，CO，CO2，H2（用于氮气和氩气净化器）。 机械颗粒过滤0.003微米 - 机械颗粒过滤，微米 ≥1 (应要求≥0.01) 时间进入操作模式，min。 15 15 30 60 7 工作模式下的耗电量，千瓦 ≤1 ≤1 ≤2 ≤3 ≤1 重量，公斤 30 40 57 190 Epishur-A SL的标准建筑物 外形尺寸，mm 750x420x320 730x590x360 1130x610x390 1800x840x580

振动筛是按粒度等级连续筛分散装物料的装置. 产生具有一定振幅的高频往复螺杆振动的元件是具有不平衡振动器的振动驱动器。 筛分直接在筛网（甲板）上进行，筛网的数量和筛布细胞的大小由技术任务设定。

NTEGRA Spectra II已经是第二代测量系统，成功地展示了两个世界的统一：原子力显微镜和拉曼光谱。 从浮雕映射到二维光谱分析，从电气和机械性能的研究到分辨率低于衍射极限的光学测量。 现在科学家可以一次对样品的表面性质进行完整的物理化学分析。 因此，研究人员获得了发展实验室技术的无限机会。

GrandMills 有限公司设计和制造用于研磨各种材料的设备，以及对研磨产品进行分级的设备。 这些设备可以将硬质和超硬材料研磨到几微米，包括碳化硼、碳化硅、氮化硅等材料。

过使用内置的声学和振动隔离、热稳定、业界最佳灵敏度的光学配准系统以及探头扫描系统的独特设计，确保了最终的显示质量，从而在常规测量中实现原子分辨率。 在基本配置中，有 50 多种原子力显微镜技术可供使用，包括 HybriD 方法，它允许您进行所有尖端的纳米机械、电学和磁学研究。 ScanTronic™ 智能算法一键优化扫描参数，允许使用振幅调制方法进行完美的浮雕测量，而不考虑操作员的经验。 使用简单的用户界面自动检查多个样本，以创建逐点扫描脚本和存储采集图像的数据库。 以 1 微米 的定位精度在表面任意点控制尺寸最大为 200×200 mm、厚度最大为 40 mm 的样品。 广泛的定制选项：安装额外的光学设备、开发专用样品架、结合传输系统、根据客户要求进行测量和数据分析的自动化。

14 个高精度步进电机控制着显微镜的所有运动部件，而智能软件则模糊了光学成像和扫描探针显微镜成像之间的界限。 NEXT 提供从毫米全景光学图像到原子分辨率的连续放大，同时自动执行激光指向悬臂、样品定位、软方法和高级扫描探针显微镜技术配置等中间操作。

NT-MDT S.I.展示了NTEGRA II，世界上最受欢迎的原子力显微镜的第二代。 由于附加功能和高级功能，它提供了前所未有的模块化和灵活性，成为研究人员的真正合作伙伴。 智能，快速，可靠，准确，无疑易于使用。 为了消除嘈杂环境的影响，NTEGRA II采用标准机柜，提供温度控制、声学和振动隔离。 这种组合揭示了NTEGRA II作为世界上最稳定的原子力显微镜的真实性质，提供小于0.2nm/min的温度漂移。