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La conception de ce type de systèmes magnétiques est également basée sur le principe de la structure dipolaire de Halbach, cependant, grâce au dispositif spécial des éléments magnétiques et au mécanisme de leur mouvement, il est possible d'accéder optique à l'échantillon étudié, dans plusieurs directions et avec une ouverture suffisamment large. La conception originale offre une combinaison unique de paramètres: Arbre de montage des échantillons: Ø 42 mm Plage de réglage du champ: -0.7 à 0.7 TL Uniformité du champ dans la zone de travail: ~ 1 % Géométrie de l'espace de travail inchangée lors du réglage du champ: Oui Capacité d'observation optique dans les directions le long et à travers le champ magnétique: Oui Il est possible de fournir une source avec un système de mesure de champ intégré associé à un PC. Le réglage du champ est contrôlé à partir d'un PC ou à l'aide d'un contrôleur intégré. Il est possible de produire des sources de champ de ce type selon les spécifications techniques (dimensions de l'espace de travail, taille du champ) du client.