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控制台设计用于在透射或反射模式下控制直径达200mm的半导体晶片的参数。 板材的参数通过高度敏感的非接触式方法在操作员指定的点进行控制。

用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序，自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量％以内。

它允许记录尺寸为500微米的物体（宝石，光学部件，半导体材料）的透射光谱。 它也用于研究用KBr压缩成小直径片剂的样品（该方法便于粉状物质的光谱分析-前缀允许您使用手动压力机使用少量样品来制造片剂）。 *聚焦光斑直径小于3毫米 *设计采用抛物面镜光学 •机顶盒配有一组可更换的膜片支架，用于不同尺寸的样品 *窗户-由红外透明材料制成的衬底可以在粘贴、液体物质或提取物后放入支架中，然后干燥各层 *滑台具有垂直和水平方向平滑移动的可能性，以达到最大信号电平

•由镜面望远镜与傅里叶光谱仪和带有红外发射器的探照灯组成 •用于记录长达100米的路线上的气体和气溶胶-气体混合物的光谱 *望远镜主镜的直径为170毫米 *角度视野+/-3度。 *套件中可以包含一个额外的反射器

为了在FSM光谱仪中安装SF型石英比色皿，使用DC10-10支架，其具有标准的50x75mm连接杆，用它插入fsm红外傅里叶光谱仪的PK50-75比色皿的支架中。