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该设备在光谱的中红外区域工作，具有用于输入来自外部源的辐射的光学端口，并配备惰性气体吹扫系统。 技术规格: 光谱范围，cm-1 370-7800 光谱分辨率，cm-10.1 信噪比（在2100-2200cm-1范围内测量时间为1min，分辨率为4cm-1）>60,000 获得一个全谱的最小时间小于，具有1 测量通道数2 具有Ge基涂层的KBr分束器 辐射源为高温金属陶瓷或外 DLATGS探测器，冷却光敏PbSe 比色皿隔间的尺寸，200x190x170 mm 外形尺寸,540x490x250 mm 重量，36公斤。

通用实验室IR傅里叶光谱仪FSM2201和FSM2202设计用于光谱中红外区域的科学研究和分析测量。 定性和定量分析气态，液态和固态的有机和无机物质样品，包括薄膜和粉末。 傅立叶光谱仪FSM2201/2202基于迈克尔逊干涉仪，具有自补偿功能，不需要动态调整。 光谱仪配有干燥空气或氮气吹扫系统，以最大限度地减少水蒸气和二氧化碳的光谱干扰，并具有光学窗口和分束器的防潮涂层。 仪器控制、自我测试、配准、分析和光谱处理的操作是自动化的，并使用个人计算机和由公司专家为Windowsxp/Vista环境开发的已安装的FSpec基本软件进行/7/8/10 ... 该程序具有直观的用户界面，允许您创建自己的fsm光谱仪上获得的光谱库，以及使用标准库并使用格式*的光谱。spe，*。spc，*。dx，*。asc。 频谱处理包括基本的数学运算和变换，搜索谱线和确定其参数。 根据标准方法工作：GOST、ASTM、EN、SEMI或在分析仪模式下进行测量，附加的软件模块与"按钮"控制的设备，附加的设备，内置的测量算法和校准被加载到FSpec平台。 该装置的通用性是通过在其比色皿室中安装各种气体和液体比色皿、光学附件和装置的可能性来确保的,从而可以研究液体、固体和气体样品。 FSM2201/2202型号的红外傅里叶光谱仪与之前生产的型号（FSM1201/1202）不同之处在于，其信噪比更高，比色皿更大。

前缀被设计用于测量样品在光谱的近红外区域的吸收光谱在范围内4 000 — 12 500 sm-1连同IR傅里叶光谱仪FSM1211。 利用近红外区域，能够对医药、化工、高分子、纺织、食品、农业等行业进行鉴定和定量分析。 BIC分析法允许您研究粉末，粉碎和纤维材料等。

FSM2211基于Fsm2211光谱仪，这是一种迈克尔逊型干涉仪，具有自补偿功能，无需动态调整。 技术规格: 光谱范围，cm-1 3700-12500 光谱分辨率，cm-12 信噪比（在2100-2200cm-1范围内测量时间为1min，分辨率为4cm-1）>60,000 获得一个全谱的最小时间小于，具有1 基于Ge的多层涂层CaF2分束器 辐射源是卤素灯 InGaAs光电二极管检测器Si光电二极管 比色皿隔间的尺寸，150x190x170mm 外形尺寸,520x370x250mm 重量， 28公斤。

DT13支架设计为通过直径为13mm的片剂的机械夹具固定，从粉末状固体样品和KBr晶体的混合物中压缩。

它用于测量厚度在纳米范围内的非常薄的涂层，并研究单分子层。

控制台设计用于在透射或反射模式下控制直径达200mm的半导体晶片的参数。 板材的参数通过高度敏感的非接触式方法在操作员指定的点进行控制。

用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序，自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量％以内。

为了在FSM光谱仪中安装SF型石英比色皿，使用DC10-10支架，其具有标准的50x75mm连接杆，用它插入fsm红外傅里叶光谱仪的PK50-75比色皿的支架中。

以安装在FT-801光谱仪的比色皿隔室中的光学-机械附件的形式制成具有所研究液体的可调层厚度的液体比色皿。 它包含聚焦光学器件，两个直径为10mm的窗口基板的可拆卸支架和放置在控制台外壳的上面板上的两个调节螺钉，旨在设置窗口之间所需的间隙。 任何粘度程度的液体以小滴的形式预先施加到下部窗口，然后，在窗口平滑收敛的过程中，均匀地填充它们之间的间隙。 通过旋转调节螺钉并在线观察透射光谱，用户有机会设置所需的液体层厚度，由整个光谱的整体强度或由特定吸收带的强度引导。 在存在校准（使用ZaIR3.5程序对已知浓度的多个样品易于创建）的情况下，比色皿可进行定量测量。 比色皿在分析含有小比例杂质的混合物时是必不可少的。 技术规格 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为50 配准光谱时推荐的扫描次数为16 16次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec20 研究液体的最小体积，mm31 焦点的直径，mm3 外形尺寸,mm200×90×160 重量,公斤1,1 该图显示了粘性润滑剂"Buxol"的几个光谱，说明了在窗口之间选择样品层厚度的过程。 测量过程具有较高的表达性和再现性，采用廉价的可更换衬底窗，系统易于配置和清洁，需要极少量的样品以获得高质量的光谱。

PRIZ前缀的主要优点是在镜面抛光金属板上赋予微物体薄层形状后，可以获得明确定义的微物体光谱（在所谓的双通道模式下，当辐射两次穿透物质层时，从镜面基板反射）。 具有内置视频摄像机的视觉控制系统的存在显着增加了设置时的信息内容以及获得的结果的可靠性。 在前缀的帮助下，还可以以原生形式注册散装样品和任意几何形状的固体物体的反射光谱，包括片剂，粉末和颗粒形式的药物，聚合物碎片，LCP，沉积在表面 技术规格 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为40 配准光谱时推荐的扫描次数为25 25次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec30 固体样品的最小初始尺寸，mm0.2×0.2 固体样品的最大面积，mm20X20X10 可变对焦范围，mm10 焦点的直径，mm3 Zdo45o模式下辐射（中心光束）在样品上的入射角 4x视觉通道的微镜头放大/总放大 光学系统的视场，mm2X2.5 数字摄像机的分辨率为640x480 外形尺寸,mm140×105×160 重量,kg1.16

样品加热系统旨在扩展标准机顶盒NPVO-ZDO和NPVO-A的功能。它由带菱形棱镜的加热可更换框架和温度控制器单元组成。 对于处于加热状态的大多数固体样品，可以获得比处于冷状态的明显得多的NPV光谱。 这使得可以将方法的灵敏度提高数倍。 一些物质和化合物的性质随着温度的升高，组分之间的化学相互作用过程，它们的分解，空气中的氧化等而发生显着变化。 可能发生。 如果在加热过程中发生物质的化学成分的变化，则可以借助带有金刚石热电池和温度控制器的NPVO前缀获得与过程动力学相对应的一组光谱，这对于扩 带有热电池和控制器的NPVO机顶盒的技术特点 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为10 配准光谱时推荐的扫描次数为25 25次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec30 辐射穿透样品的深度，微米5–15 固体样品的最小尺寸，mm0.5×0.5 所研究液体的最小体积，ml1 纤维样品的最小尺寸：截面直径/长度，mm0.3/1 晶体基板的材料为金刚石 晶体自由区的直径，mm不小于2x3 焦点的直径，mm1.5 最高温度220o 调整精度，具有1o 达到最高温度的时间，最小10 外形尺寸,mm130×200×90 重量,公斤1,2