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KFK-3-01的特点 分配的光谱范围为5-7nm SCNP测量范围1-99 % 光密度测量范围0.004-2b SCNP读数范围为0.1-120 % 光密度读数范围为0-3b 浓度读数范围为0.001-9999单位。 conc

SPEKTRAN-219分析仪的工作原理是基于在光谱的近IR区域测量研磨晶粒样品的漫反射系数。 根据测得的成分含量已知的谷物样品的反射数据，对分析仪进行校准，即计算出各成分的校准系数。 计算值存储在分析仪的内存中，然后用于产品分析。 技术规格 光谱范围,nm1400-2400 光谱测量误差 漫反射系数+/-5% 波长设定误差，nm+/-2.0 光谱测量的收敛性 漫反射系数为0.03% 外形尺寸,mm520x250x260 重量,公斤12

具有光谱的电弧激发的左轮手枪型样品的自动改变的粉末样品的遥控雾化器。 它包括用于电弧光谱分析的自动三脚架"旋转木马"和光谱分析发生器"Ball Lightning"–40a与专家系统"ATOM"和MAES分析仪完全兼容。

等离子体双视光谱仪允许同时记录任何谱线，分辨率高，浓度范围从ppb的分数到几十个百分点，并为解决任何研究任务提供了广泛的选择。 该设备旨在分析几乎所有类型的环境样品，包括水、土壤和沉积物。 快速启动，并无需长时间加热。 低氩气消耗。 易于使用。

对于需要快速分析、高技术含量、高可靠性和高精确度来确定金属产品全元素组成的客户来说，SPAS-05 是以最低成本购买、实施和运行设备的最佳解决方案。

它设计用于通过在集成和外部监视器上同时可视化微物体的干扰全内反射方法以及在样品上部位置入射角为45o的镜面漫反射方法进行测量。 单个NIP模式中的前缀用于登记吸收光谱: 任何粘度的液体(溶液、悬浮液、油等).)，包括具有高化学活性的那些; 任意形状的固体物体，包括具有非常高硬度的样品（任何聚合物，油漆涂层的碎片等。); 粉状物质，包括具有非常高硬度的粉末（药物，药品，爆炸物，无机化合物）; 薄膜形式的样品; 纤维形式的样品。 金刚石的最大硬度和耐化学性显着扩展了该方法的可能性;不需要定期更换晶体。 机顶盒允许您注册光谱，而无需耗时的样品制备，并且具有高品质摄像机和内置高清微型监视器的研究表面视觉检测系统的存在提高了处理小样品时的效率-细纤维碎片，微粒等。 内置监视器具有数字10倍变焦，反相等功能。 图像可以同时显示在计算机屏幕上（使用USB接口），然后保存为文件。 可拆卸法兰提供了一个快速和方便的样品更换和清洁晶体表面。 在NPVO的基础平面上方突出金刚石元件的设计允许您研究具有足够大的整体尺寸的样品。 由于没有物质层厚度对光谱形状和吸收带强度的影响，结果的高质量和可重复性得以实现。 样品保留了其原始的物理化学性质，如果需要，可以通过其他方法进一步研究。 通用附件夹配有一个精密杠杆机构，用于快速降低尖端和一个千分尺螺钉，允许您预先设置最佳的压力程度–这确保快速更换样品和测量结果的重复性。 为了方便处理液体和糊状样品，以及在ZDO模式下，可以将夹紧控制台旋转180o。该控制台配有两个可更换的尖端-一个球形工作部件和一个平铰头。 金刚石的高硬度允许使用大的夹紧力，这是获得高质量光谱的决定因素。 替换表用于登记镜面和漫反射光谱。 样品向下位于被调查表面的被调查平面上。 该方法用于测定光学零件、表面薄膜、晶体和其他任意形状和大小的大型固体物体的光谱特性。

它的目的是记录近红外区和中红外区固体、液体和气体物质(包括药物、油漆和油漆、石油产品、炸药、药理制剂、聚合物薄膜和纤维)的吸收光谱,并对含有几种成分的混合物进行定性和定量分析。

技术规格: Rowland circle500mm的光学系统和焦距Paschen-Runge光学方案 氩气吹扫聚铬器(氩气消耗约0.05l/min) 175-425nm，可安装额外通道 光谱范围：钠589nm（按特殊顺序，可以在175-850nm范围内扩展） 氩气吹的地段。 开放的非字符串，有特殊的适配器用于分析杆和电线 Odatchik（远程三脚架）通过特殊订单，远程传感器的重量为1.2ng，电缆长度为2.5m 特别订购的额外空气三脚架 励磁源SPARK-500发电机 操作条件温度15...30°C，相对湿度<80% 电源要求功率1NVA，电压220-22V50HZ，单相带接地 氩气纯度99.998%的要求。 光谱仪有一个额外的 氩气净化过滤器。 如有需要 ，氩气净化支架SOAR-1可以包含在交付包装中 尺寸，mm（长，宽，高）810x525x975-地面版，810x525x430-桌面版 重量：地面版 80公斤 ，桌面版 50公斤 。 测得的浓度范围为0.0001%...10 % 相对误差（取决于浓度）为0.5％...5% 分析时间10...40秒。

用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序，自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量％以内。

一种独特的台式光发射光谱仪，具有结合激光火花和空气中电火花放电的组合光谱激发源，用于对电流传导样品进行快速光谱分析，分析固体整体（玻璃、陶瓷、塑料、金属、合金、花岗岩等）的元素组成。），各种压制粉末（包括土壤，岩石，地质样品等。). 该光谱仪可用于异质样品（表面和深度）的微量分析，用于分析微样品，复杂形状的样品。 LIES可用于黑色金属，有色金属，粉末冶金;金属科学;采矿，采矿和加工业;地质和地质勘探;生产建筑材料;生产高纯度材料;在生态和环境保护;在农业和食品工业; Lies-台式组合激光-火花发射光谱仪，用于固体巨石的光谱分析 组合激光-火花发射光谱仪的独特之处在于，与传统激光光谱仪不同，激光火花同时执行两项功能：烧蚀（从样品中提取被分析物质）和激发提取的原子和离子的光谱，LIES光谱仪使用的不是一次放电，而是两个–激光火花和电火花，它们共享上述功能：激光火花执行烧蚀，电火花作为被分析物质原子和离子光谱的激发源。 这种方法显着（由3-10倍！）提高了光谱仪的计量特性（灵敏度和再现性）。

比色皿具有100mm的固定光程长度，设计用于通过IR透射光谱学研究流动或静态模式下的气体，气体混合物和蒸气，并有可能保持或改变样品的温度。 比色皿安装在光谱仪中，并借助气体传输管连接到所研究气体样品的源。 比色皿中使用由ZnSe和KBr材料制成的可更换光学窗口。 加热到250°C的可能性避免了进入比色皿的挥发性物质的冷凝和沉淀。 内置加热器和电池温度传感器的控制是使用温度控制器（包括在交付包中）进行的。 比色皿本体的材料为不锈钢。 比色皿配有标准平台，用于安装在IR傅里叶光谱仪FSM中。