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它具有空气中电弧放电光谱的激发源、碳电极、200-930nm范围的双空气光谱仪和在线性CCD探测器上的配准。 粉末材料和导流样品的光谱快速分析.

AR-35分析仪是一种全自动分析复合体，专为连续X射线荧光分析浆液和溶液的化学成分而设计。 该设备有一个移动软件控制的测量头，带有一个X射线管和固定的光谱通道（最多8个），每个通道都可以调整到任何化学元素（从Ca到U）。 在操作过程中，头根据给定的程序绕过多达15个流量比色皿，执行测量。 多通道（最多15个分析产品）。 与自动化系统兼容，用于采样，样品交付，处理和显示分析结果，组织存储分析数据的存档。 与工厂自动化过程控制系统的通信 高表达性、分析准确性、低检出限、分析的重现性。 可靠性高。 分析仪的工作原理是基于来自X射线管的辐射激发被研究物质原子的荧光辐射。 特定化学元素的荧光辐射由分析仪晶体释放，之后由X射线检测器记录具有一定波长的辐射。 所记录的某一波长的荧光辐射的强度与所研究物质中化学元素的质量分数成正比。

技术规格: 光谱范围，nm 190-650 380-1100 190-1100 相对开口1:10 1:10 1:10 接收器元件数量4000 4000 4000 一个接收器元件的尺寸，7x200 7x200 7x200 微米 整个频谱的最短注册时间，ms1-1-1 最小扫描步长，0,1-0,2-0,2nm 波长设置绝对误差允许值的限制，0,4-0,8-0,8nm 入口插槽（插槽通过预购安装），50-50-50微米 最小分配光谱范围，nm，1-1,5-1,5nm 衍射光栅（复制品）-球形凹面：每毫米冲程数600 300 300 光纤连接器FC、SMA的类型 整体尺寸，没有更多210*110*10 210*110*10 210*110*170 mm，

SPEKTRAN-219分析仪的工作原理是基于在光谱的近IR区域测量研磨晶粒样品的漫反射系数。 根据测得的成分含量已知的谷物样品的反射数据，对分析仪进行校准，即计算出各成分的校准系数。 计算值存储在分析仪的内存中，然后用于产品分析。 技术规格 光谱范围,nm1400-2400 光谱测量误差 漫反射系数+/-5% 波长设定误差，nm+/-2.0 光谱测量的收敛性 漫反射系数为0.03% 外形尺寸,mm520x250x260 重量,公斤12

具有光谱的电弧激发的左轮手枪型样品的自动改变的粉末样品的遥控雾化器。 它包括用于电弧光谱分析的自动三脚架"旋转木马"和光谱分析发生器"Ball Lightning"–40a与专家系统"ATOM"和MAES分析仪完全兼容。

等离子体双视光谱仪允许同时记录任何谱线，分辨率高，浓度范围从ppb的分数到几十个百分点，并为解决任何研究任务提供了广泛的选择。 该设备旨在分析几乎所有类型的环境样品，包括水、土壤和沉积物。 快速启动，并无需长时间加热。 低氩气消耗。 易于使用。

对于需要快速分析、高技术含量、高可靠性和高精确度来确定金属产品全元素组成的客户来说，SPAS-05 是以最低成本购买、实施和运行设备的最佳解决方案。

技术规格: Rowland circle500mm的光学系统和焦距Paschen-Runge光学方案 氩气吹扫聚铬器(氩气消耗约0.05l/min) 175-425nm，可安装额外通道 光谱范围：钠589nm（按特殊顺序，可以在175-850nm范围内扩展） 氩气吹的地段。 开放的非字符串，有特殊的适配器用于分析杆和电线 Odatchik（远程三脚架）通过特殊订单，远程传感器的重量为1.2ng，电缆长度为2.5m 特别订购的额外空气三脚架 励磁源SPARK-500发电机 操作条件温度15...30°C，相对湿度<80% 电源要求功率1NVA，电压220-22V50HZ，单相带接地 氩气纯度99.998%的要求。 光谱仪有一个额外的 氩气净化过滤器。 如有需要 ，氩气净化支架SOAR-1可以包含在交付包装中 尺寸，mm（长，宽，高）810x525x975-地面版，810x525x430-桌面版 重量：地面版 80公斤 ，桌面版 50公斤 。 测得的浓度范围为0.0001%...10 % 相对误差（取决于浓度）为0.5％...5% 分析时间10...40秒。

用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序，自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量％以内。

一种独特的台式光发射光谱仪，具有结合激光火花和空气中电火花放电的组合光谱激发源，用于对电流传导样品进行快速光谱分析，分析固体整体（玻璃、陶瓷、塑料、金属、合金、花岗岩等）的元素组成。），各种压制粉末（包括土壤，岩石，地质样品等。). 该光谱仪可用于异质样品（表面和深度）的微量分析，用于分析微样品，复杂形状的样品。 LIES可用于黑色金属，有色金属，粉末冶金;金属科学;采矿，采矿和加工业;地质和地质勘探;生产建筑材料;生产高纯度材料;在生态和环境保护;在农业和食品工业; Lies-台式组合激光-火花发射光谱仪，用于固体巨石的光谱分析 组合激光-火花发射光谱仪的独特之处在于，与传统激光光谱仪不同，激光火花同时执行两项功能：烧蚀（从样品中提取被分析物质）和激发提取的原子和离子的光谱，LIES光谱仪使用的不是一次放电，而是两个–激光火花和电火花，它们共享上述功能：激光火花执行烧蚀，电火花作为被分析物质原子和离子光谱的激发源。 这种方法显着（由3-10倍！）提高了光谱仪的计量特性（灵敏度和再现性）。

比色皿具有100mm的固定光程长度，设计用于通过IR透射光谱学研究流动或静态模式下的气体，气体混合物和蒸气，并有可能保持或改变样品的温度。 比色皿安装在光谱仪中，并借助气体传输管连接到所研究气体样品的源。 比色皿中使用由ZnSe和KBr材料制成的可更换光学窗口。 加热到250°C的可能性避免了进入比色皿的挥发性物质的冷凝和沉淀。 内置加热器和电池温度传感器的控制是使用温度控制器（包括在交付包中）进行的。 比色皿本体的材料为不锈钢。 比色皿配有标准平台，用于安装在IR傅里叶光谱仪FSM中。